Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9239896 à vendre en France

KARL SUSS / MICROTEC MA 200
ID: 9239896
Style Vintage: 2013
Mask aligner 2013 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un aligneur de masque de microlithographie utilisé dans la fabrication de cartes de circuits imprimés, de circuits intégrés semi-conducteurs et de divers autres écrans plats. Ce produit est conçu pour aligner précisément un photomasque avec une pièce pendant le processus d'exposition. L'alignement du masque a deux axes de mouvement et est capable de deux mouvements consécutifs, permettant un alignement du masque et du substrat à 0,2 µm près du spectre d'alignement désiré. La précision et la précision de MICROTEC MA200 est renforcée par son équipement d'alignement sophistiqué qui comprend des faisceaux de mesure pour le positionnement x, y et θ coordonnées. De plus, le système dispose d'une unité d'enregistrement multi-broches à l'abri des rayonnements externes, de trois commandes compensatoires au foyer de lampe et d'une commande auto-focus pour s'assurer que l'alignement est maintenu dans les limites des spécifications de précision. KARL SUSS MA-200 a plusieurs caractéristiques qui fournissent un processus d'exposition optiquement lisse. La machine est équipée d'un lecteur numérique de micromètres, ainsi que d'un foyer semi-automatisé et de commandes d'exposition. L'optique d'exposition fournit un éclairage uniforme du champ d'exposition, ce qui rend possible un taux d'exposition pour la première fois de 98 %, ainsi que l'élimination de la distorsion. L'optique d'exposition offre une haute résolution, ainsi qu'un mode d'exposition à grande vitesse. KARL SUSS/MICROTEC MA200 comporte trois étapes : l'étape d'exposition, l'étape de pré-alignement et l'étape d'enregistrement. L'étape d'exposition facilite l'exposition de la résine photosensible et du substrat. L'étape de pré-alignement permet de positionner le photomasque et d'aligner le substrat tout en maintenant les erreurs d'enregistrement à 0,2 µm de la cible d'alignement. L'étape d'enregistrement permet de positionner avec précision le substrat et le photomasque et de contrôler les erreurs d'enregistrement. MA200 est un aligneur de masque performant fiable et un outil fiable de microlithographie. Sa grande précision et son outil d'alignement sophistiqué se sont avérés fiables dans l'impression de microcircuit et la production de semi-conducteurs et de panneaux plats. Ainsi, il est devenu un choix préféré des concepteurs et fabricants professionnels de microlithographies.
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