Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9381588 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un aligneur de masque de haute précision utilisé pour la création de motifs et la photolithographie en optoélectronique, IC, MEM, et la production de dispositifs à couches minces. Il dispose d'un étage pas à pas haute résolution pour permettre un alignement précis des dispositifs avec des trous de contact, des éléments d'isolement, des vias, et même de grands circuits. L'équipement optique de MICROTEC MA200 utilise un réticule éclairé de 4 microns et un scanner Galvo à pas rapide pour obtenir une résolution précise de 1 µm. La source lumineuse est une lampe halogène pour des temps d'exposition rapides et un champ d'éclairage uniforme sur l'ensemble du substrat. La lumière recueillie est acheminée à travers un monochromateur qui réduit la lumière ambiante et assure une fréquence uniforme à travers la surface de l'échantillon. KARL SUSS MA-200 a un boîtier robuste en acier inoxydable et une plage de température ambiante de 15 ° C à 25 ° C, plus une plage d'humidité de 10 % à 80 %. Il est également équipé d'une manutention automatique des plaquettes, d'une porte motorisée qui aide à accéder aux substrats et d'une chambre scellée sous vide. L'alignement comprend également un système autofocus capable de régler les hauteurs des sites tout en appliquant une pression pour maintenir le contact entre le substrat et le réticule. Il est ainsi plus facile d'obtenir des niveaux de précision plus élevés, surtout lorsqu'il s'agit d'aligner de petites gravures. Les fonctionnalités de masquage assistées par le modèle KARL SUSS MA 200 permettent une commutation plus rapide entre différents substrats ou motifs sans outils supplémentaires. Il dispose également d'une unité de réflectométrie spectroscopique intégrée pour surveiller l'obscurité et le contraste des caractéristiques des appareils, aidant à l'accord du cycle de production. Une machine de communication intégrée permet la programmation avec des interfaces standard comme Ethernet et RS-232. MA200 est un alignement de masque très précis qui est parfait pour la production d'IC, d'optoélectroniques, de dispositifs à couches minces et de MEM. Son optique haute performance et son outil autofocus assurent un alignement parfait entre le substrat et le réticule. Il comprend également le masquage assisté par gabarit, la réflectométrie spectroscopique intégrée et les capacités de communication. Toutes ces caractéristiques font de MICROTEC MA 200 une option idéale pour la production d'appareils de haute précision.