Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9395433 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un aligneur de projection plein champ utilisé pour l'alignement qualitatif et la photolithographie de substrats dans la gamme submicronique. L'équipement est parfait pour travailler avec une grande variété de matériaux, substrats, doses et caractéristiques, ce qui le rend idéal pour une variété d'applications de recherche, de développement et de production. MICROTEC MA200 dispose d'un système unique d'alignement non scanner qui utilise l'optique d'imagerie de champ large et l'uniformité de champ pour aligner avec précision chaque substrat rapidement et précisément. Cela permet l'enregistrement précis des substrats pour les processus de photomasking et de gravure. L'unité d'alignement haut de gamme de KARL SUSS MA-200 utilise l'imagerie numérique et le contrôle linéaire et rotationnel précis du masque pour assurer un alignement précis des substrats avec le photomasque. Cette machine a été optimisée pour faciliter l'adaptation optimale des superpositions, ce qui est important dans l'alignement des conceptions petites et complexes telles que trouvées dans la microélectronique et MEMS. La taille des caractéristiques de KARL SUSS MA 200 est minime, ce qui permet un alignement précis à des angles aussi petits que 0,2 mrad. Cette taille de caractéristique se retrouve dans de nombreux aligneurs commerciaux, cependant MA200 est particulièrement avantageuse dans sa capacité à aligner avec précision et précision de très petites caractéristiques. KARL SUSS MA200 est automatisé et est livré avec des pièces multi-usure et des optiques remplaçables par l'utilisateur, permettant aux utilisateurs de réduire leurs coûts d'exploitation tout en maintenant les normes de qualité les plus élevées. L'outil automatisé de manutention des plaquettes de transport permet un chargement rapide des substrats et des masques, réduisant le temps nécessaire à la photolithographie. Le matériel de maintenance automatisé assure une performance optimale de tous les composants, réduisant le besoin de maintenance manuelle. MA-200 fournit des caractéristiques haut de gamme pour l'alignement précis et précis des caractéristiques critiques. Sa technologie sans scanner, son optique d'imagerie à large champ et ses systèmes d'imagerie et de contrôle numériques sensibles permettent aux utilisateurs de créer des masques de haute qualité avec d'excellents résultats. La combinaison d'une technologie de pointe et de performances fiables en fait un excellent choix pour les applications de recherche, de développement et de production.