Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 4/6 #9258606 à vendre en France

ID: 9258606
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1993
Mask aligner, 6" Substrates, 6" x 6" M206 / M236 Split field microscopes Objectives: 5x, 10x, 20x Eyepiece Magnification: 10x Micrometer spindles UV Ranges with optimized diffraction reducing systems Splitfield topside microscope with turret C-Mount for IR camera adaption Alignment stage with loaded IR chuck IR Illuminators and tube stage for target positioning IR Tubes Spare parts Tool kit X-Drive IR Tool: Chuck Maskholder Spacers for maskstage clamp Stage: X, Y Theta Z Alignment Wedge error compensation Microscope manipulator with adapter Movement synchronized with alignment Lamp house LH 1000: 350 W / 1000 W lamp With optical tube and mirror house / Eclipse mirror CRT Display Serial dialog operator interface Substrate size: 1" x 1" - 4" x 4", Pieces Mask size: 7" x 7" Exposure system: Vacuum contact and proximity Gas separation: 0-90 um Gas adjustment resolution: 1 µm Contact pressure: 0.02 - 1.0 N/cm² Exposure optics: Wavelength / Range / Source UV400 / 350 mm - 450 mm / 1000 W Hg UV300 / 208 mm - 350 nm / 1000 W Hg Alignment: Top Side Alignment (TSA) Accuracy: TSA down to 0.5 µm Back side alignment Accuracy: BSA down to 1.5 µm Alignment stage: Alignment range X: ±5 mm Alignment range Y: ±5 mm Alignment range θ: ±3° Mechanical resolution XYθ: 0.05 μm UV400 With high peak intensity at 365nm and 405 nm Exposure area: 6" CIC500 for 350W HBO Maximum intensity at 365nm: 19 ±4% mW/cm² Maximum intensity at 405nm: 30 ±4% mW/cm² Power supply: 110 V / 220V, 50/60 Hz, 1500 W 1993 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6 est un aligneur de masque à usage général qui fournit une méthode très précise pour modeler des caractéristiques microscalaires et à grande échelle sur un substrat. Cette technologie de pointe aide les utilisateurs à créer des modèles complexes qui sont critiques pour toute application, allant des cartes de circuits imprimés à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et au-delà. MICROTEC MA 4/6 dispose d'une gamme de précision d'alignement de ± 2µm à ± 20µm, permettant d'atteindre les normes d'alignement les plus élevées lors de la création de modèles complexes et avancés. La conception comprend également un équipement de positionnement 12 axes qui fournit un positionnement optimal et la manipulation du champ de balisage - un facteur critique pour les applications de nanolithographie. KARL SUSS MA 4/6 est équipé de systèmes de bulles à longue durée de vie « Air Bubble Free » qui fournissent une stabilité totale de la table optique et de plaquette, fournissant le plus haut niveau de résultats reproductibles pour des années de fonctionnement. L'imagerie des lentilles est assurée par un système optique à haute puissance à longue durée de vie et à faible consommation. Cela comprend un champ de vision variable qui peut être ajusté de diamètres de 20µm à 30µm. De plus, KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6 offre un support à l'unité, des menus de façade conviviaux et une intégration PC pour garantir une utilisation facile. La machine est également équipée d'un module de pré-alignement avant, de capacités d'analyse d'image et d'un outil de surveillance des particules. La surface exposée de la plaquette est mesurée pour la précision dimensionnelle, assurant un alignement précis avec le motif. Il existe également une sélection de systèmes de purge des gaz actifs, comme Sep-Purge ou TurboPurge, qui empêchent l'accumulation de gaz dans l'actif, ce qui garantit des conditions de fonctionnement difficiles. En conclusion, MICROTEC MA 4/6 est un modèle d'alignement de masque de haute précision adapté à une variété d'applications nécessitant une imagerie précise. Sa gamme de précision, son équipement de positionnement 12 axes, ses systèmes de bulles à longue durée de vie et son excellente optique en font une solution idéale pour les applications de nanolithographie. Le système offre également des fonctionnalités telles que le pré-alignement, l'analyse d'image, le support à l'unité, l'intégration de PC, et la surveillance des particules qui fournissent une facilité d'utilisation et produisent des résultats très précis.
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