Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 4 #293794891 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 4 est un aligneur de masque qui est devenu de plus en plus populaire pour l'industrie des composants électroniques. Ce dispositif est utilisé pour réaliser un recouvrement précis de dispositifs électroniques sur un substrat en silicium. MICROTEC MA 4 est conçu pour réaliser un alignement de photolithographie avancé en utilisant un système d'alignement de projection avancé. Le dispositif utilise un système d'éclairage calibré avec précision et une interférométrie laser numérique pour le positionnement rapide et précis des masques et des substrats. KARL SUSS MA-4 est largement utilisé pour la fabrication de composants traversants et flip-chip et pour la production de photomasques avancés. Il a une surface de projection maximale de 240mm x 200mm et peut manipuler des substrats jusqu'à 4 « x 6 ». La plage de grossissement de travail est de 0.75X à 50X. Son appareil photo numérique permet une cartographie définie par l'utilisateur à tout grossissement et un moniteur couleur de 9 "permet de visualiser facilement le masque et la plaquette. MICROTEC MA-4 est adapté à une variété d'applications de fabrication de masques, y compris les alignements de contact, de proximité et de contact doux. Il dispose d'un système de balayage à faible dérive pour la reconnaissance précise des motifs, même avec des niveaux élevés de bruit présent. Son étage de précision offre un faible recul et un mouvement répétable et dispose de capacités de centrage automatique et de correction de coin. La performance d'alignement de KARL SUSS MA 4 est encore améliorée grâce à son compensateur de répétabilité intégré. Cette fonctionnalité avancée analyse chaque échantillon à deux niveaux, compare les résultats et ajuste le désalignement au cours du processus d'alignement. L'appareil est également capable de stocker jusqu'à neuf programmes d'imagerie pour un accès facile. MA 4 est un aligneur polyvalent de masque haute performance qui est devenu largement utilisé pour des applications de photolithographie de précision. Il a la capacité de traiter rapidement et efficacement une variété de substrats et a des caractéristiques avancées qui permettent un mouvement et un alignement précis et reproductible.