Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 55 #123195 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 55 est un équipement de photolithographie conçu pour l'alignement précis des photomasques avec une variété de substrats. Elle est particulièrement bien adaptée à la fabrication de dispositifs microélectroniques, micromécaniques et optoélectroniques. MICROTEC MA 55 est un aligneur de masque manuel avec une table optique de précision de 8x8 pouces et un microscope 10x. Il dispose d'un système d'alignement bidimensionnel (2D) intégré pour aligner les masques et les substrats avec un minimum d'intervention de l'opérateur. L'unité est conçue pour fournir à la fois une capacité d'alignement planaire et d'inclinaison pour le positionnement du masque et de la plaquette. Il est capable de maintenir des performances ± 0,4 micron lorsqu'il est accouplé à une surface plane. KARL SUSS MA-55 offre une plate-forme polyvalente et de haute précision pour la photolithographie. Il existe deux systèmes de contrôle distincts pour le masquage et le traitement des plaquettes. Chacun a son propre logiciel basé sur Windows dédié pour la saisie et la manipulation des données. La machine de contrôle du masque permet aux utilisateurs d'entrer les données du masque telles que les figures de position, les tailles et les types de masques, ainsi que la superposition et le désalignement. L'outil de contrôle des plaquettes permet aux utilisateurs d'entrer les données des plaquettes telles que les figures de position, la forme des plaquettes et les types de plaquettes. MICROTEC MA-55 offre une optique haute résolution, y compris un microscope 10x et un microscope 5x pour agrandir l'alignement et la visualisation pendant le processus de photolithographie. Il contient également un appareil photo CCD numérique de 5 mégapixels de faible puissance pour la prise de photos et l'inspection in situ du masque. De plus, KARL SUSS/MICROTEC MA-55 intègre un système intégré de glissière à glissière pour l'alignement précis des masques et la manipulation des plaquettes. Le modèle de rail à glissière porte-air assure un alignement stabilisé masque-plaquette permettant une précision de positionnement sous micron. MA 55 supporte une grande variété de photomasques jusqu'à 8 x 8 pouces en taille et une variété de formes de plaquettes. Sa lampe d'exposition produit un champ d'éclairage précis et uniforme avec des intensités allant jusqu'à 10 000 Lux. tous les composants d'alignement et d'exposition sont scellés sous vide avec un module intégré de filtration des gaz pour éviter la contamination. MA-55 est un équipement de photolithographie fiable et précis utilisé dans un large éventail d'industries. Il offre une grande précision d'alignement grâce à son optique avancée, sa caméra CCD et son système de glissière pneumatique. L'unité intégrée de filtration des gaz assure une exposition propre et sans contaminant pour des résultats cohérents. Avec ses capacités polyvalentes, cet aligneur de masque est adapté à une utilisation dans le prototypage, la recherche et la production de dispositifs électroniques, microélectroniques, optoélectroniques et micromécaniques.