Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 / MJB55 #9136941 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 56/ MJB55 est un équipement d'alignement de masque spécialement conçu pour le marquage et l'alignement précis des micro-composants. Le MA 56 maintient le substrat dans un mandrin parfaitement contrôlé compatible avec le vide, tandis que le MJB55 est un système d'alignement à deux niveaux et de positionnement x-y-z qui assure toutes les fonctions de micro-alignement et de positionnement. Ensemble, ils fournissent une très grande précision et des résultats reproductibles pour al les étapes de masquage et de photolithographie utilisées dans la fabrication avancée de puces microélectroniques. Le MA 56 utilise un étage de haute précision pour l'alignement et la fixation de substrat plat, et est capable de délivrer une précision de l'ordre de 0,1 microns (100 nanomètres) dans les directions X, Y et Z. L'étape a une plage de course de 400 x 400mm (15,7 "x15,7"), avec une précision de +/-2um (0,08 "). La tête est montée sur un étage d'angle d'inclinaison uniaxe, précis à +/-10 de seconde d'arc, et un étage de rotation continue à 360 degrés. Le MJB 55 est une unité d'alignement de masque contrôlée par étage avec 6 axes de mouvement (x-y-z, θ x, θ y et θ z). Il a une plage de course de 70 x 70mm (2,75 "x2,75"), avec une précision de positionnement de +/- 2um (0,08 "), et est capable de 2 degrés/s de vitesse de rotation. Il est également c capable de balayage de vitesse 3K et convient pour une précision de sous-micron. Le MA 56 et le MJB 55 peuvent gérer une large gamme de tailles de masques allant de 4 « x 4 » à 12 « x 12 », et est compatible avec les plaques de photo-imagerie standard, et les substrats. La machine a également une variété de caractéristiques pour assurer une grande précision, y compris la détection automatique des écarts pour assurer le parallélisme du substrat, et une étape d'auto-alignement et la routine de répétition. MICROTEC MA 56/ MJB55 est l'outil idéal pour effectuer toutes les étapes de masquage et de photolithographie nécessaires à la fabrication avancée d'IC. Il fournit des résultats précis et reproductibles, et sa large gamme de fonctionnalités et de capacités en font un outil indispensable pour les fabricants de puces à la recherche de motifs de haute précision et d'alignement de leurs micro-composants.