Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque automatisé conçu pour les processus de photolithographie. Il utilise un équipement ultra précis d'alignement de projection laser pour augmenter la précision de l'alignement des masques sur les substrats sur les plaquettes lors des processus de lithographie. MICROTEC MA56 est conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs haute densité, y compris ceux destinés à des applications logiques et mémoire, et est capable de fournir une précision de niveau sous-micron pour les alignements de dispositifs. KARL SUSS MA-56 est équipé de plusieurs fonctionnalités qui en font un excellent choix pour une variété d'applications d'alignement de photomasques, tout en permettant aux utilisateurs de personnaliser leur processus. Il est équipé d'un grand champ de masque de 8 pouces, qui offre suffisamment d'espace pour accueillir un large éventail de tailles et de géométries, y compris des masques de petit et grand format. De plus, KARL SUSS MA56 dispose de deux aligneurs de projection indépendants, qui sont tous deux capables de fournir un alignement spot-on avec une précision de sous-microns. KARL SUSS/MICROTEC MA-56 dispose d'un design modulaire qui permet aux utilisateurs de personnaliser le système en fonction de leurs besoins de production spécifiques. Il est livré avec une grande variété d'options d'objectif, chacun offrant ses propres avantages pour une application particulière, comme la résolution et la profondeur de focus. L'unité comporte également une variété d'autres composants optionnels, tels qu'un combineur de faisceaux optiques pour l'alignement multicouches, un scanner pour la combinaison de motifs, et une large gamme d'objectifs de projection pour l'alignement utilisant différents lasers de longueur d'onde. MICROTEC MA-56 est capable de stocker jusqu'à 6 masques, ce qui facilite le passage rapide entre différents ensembles de photomasques. KARL SUSS/MICROTEC MA56 utilise une machine de manutention de plaquettes qui permet de positionner avec précision des sous-ensembles de plaquettes sur le support. L'outil est également équipé d'un dispositif d'alignement auto-réfléchissant qui compense rapidement la réflectivité de la surface et les erreurs éventuelles du scanner. De plus, le KARL SUSS MA 56 peut être mis à niveau avec des options avancées telles qu'un capteur de gap automatisé et un réglage de trou de vide pour améliorer les performances et la précision. En plus d'avoir d'excellentes capacités d'alignement de masque, MICROTEC MA 56 fournit des conditions précises pour une large gamme de substrats. Il utilise un actif précis de surveillance de la température et de l'humidité, de sorte que les dispositifs sont fabriqués dans les conditions optimales. La MA 56 est également équipée d'un modèle de sécurité avancé qui empêche tout accident lié au fonctionnement de l'équipement lorsque celui-ci circule dans un environnement chimiquement sensible. Dans l'ensemble, MA-56 est un excellent choix pour l'alignement précis du masque des dispositifs semi-conducteurs haute densité. Il est équipé d'un système avancé d'alignement de projection qui peut fournir une précision et un contrôle de sous-microns. En outre, MA56 fournit une large gamme de caractéristiques et de composants qui permettent de le personnaliser pour une variété de besoins, tout en fournissant des conditions précises pour une gamme de substrats.