Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #293745236 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque de haute précision qui est utilisé dans de nombreux procédés photolithographiques. Le dispositif utilise un système optique de projection spécial avec des sources lumineuses intenses et un étage de masque XY de haute précision. MICROTEC MA56 permet un alignement et un enregistrement précis des photomasques, assurant ainsi une définition précise des caractéristiques et un alignement précis des couches résultantes et ultérieures. KARL SUSS MA-56 est composé de trois composants principaux, l'étage Masque, la Structure Limite et un Réticule. L'étage Masque est responsable de l'alignement précis du photomasque et la structure limitante assure la définition précise des caractéristiques et l'alignement précis des couches ultérieures. Le Réticule est utilisé pour focaliser la lumière sur le masque. Le système optique avancé de MICROTEC MA-56 dispose d'un mécanisme de focalisation précis et d'une grande zone d'émission de lumière. Cela permet un positionnement précis du produit et de petites tailles de fonctionnalités. De plus, KARL SUSS MA56 dispose d'une capacité avancée d'auto-alignement, permettant une configuration facile et un alignement précis. Le logiciel avancé de photolithographie associé à MICROTEC MA 56 permet de multiples options d'exposition et d'enregistrement des plaquettes. L'appareil est capable de grossissements jusqu'à 1600x et dispose d'une résolution de lentille améliorée. KARL SUSS MA 56 est équipé d'un étage à température contrôlée, permettant d'améliorer la stabilité du procédé. KARL SUSS/MICROTEC MA56 bénéficie également d'une précision de détection améliorée, ce qui le rend bien adapté aux processus photolithographiques les plus précis. La précision d'alignement de MA 56 est de +/- 0,5 microns. MA-56 est capable d'effectuer divers traitements photorésistants tels que le softbake, le four, le recuit et le développement. MA56 est un équipement très fiable, en raison de sa faible consommation d'énergie opérationnelle et de l'utilisation de pièces de haute qualité. Il est capable de traiter rapidement et avec précision des photomasques de haute précision. De ce fait, le dispositif est largement utilisé dans la réalisation de circuits intégrés, de dispositifs semi-conducteurs et de circuits intégrés hybrides.