Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #293818127 à vendre en France
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ID: 293818127
Mask aligner
Substrate size: 2.5" × 2.5"
UV400 Optical system
Lamp, 500 W
Operation modes: Soft contact and hard contact
LPS 1000/CIC 500 Power supply unit
Сontrol panel/console
Manual.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque automatisé utilisé dans la production de systèmes microélectromécaniques (MEMS). C'est un système de projection de masque qui utilise l'optique intégrée, la mise en scène automatisée des plaquettes et le chauffage et le refroidissement multi-zones. Il fournit un moyen précis et fiable de tracer et de transférer des motifs sur un substrat en silicium. Le système est équipé d'un générateur de motifs de masque numérique et d'un objectif haute vitesse et haute précision capable de produire des motifs d'une largeur minimale de 90 nm et d'un espacement minimal de 180 nm. MICROTEC MA56 est capable de produire une large gamme de motifs avec une résolution allant jusqu'à 0,5 µm. Il dispose également d'un étage de plaquette 3𝛍 X, Y et θΩ pour positionner et orienter avec précision les plaquettes lors de l'alignement. KARL SUSS MA-56 dispose également d'une source lumineuse de haute qualité qui offre plus de luminosité et d'uniformité que les sources traditionnelles de lampes à arc. Ceci assure un alignement précis et un transfert de motif sur un substrat. La conception optique de KARL SUSS/MICROTEC MA-56 comprend plusieurs objectifs à ouverture numérique élevée et permet une focalisation semi-automatique et un recentrage. Tous les motifs sont projetés sur un substrat à travers un boîtier optique stable et compensé par les vibrations. MICROTEC MA 56 offre une large gamme de fonctionnalités conçues pour un alignement automatisé et de haute précision. Il dispose d'un chargement automatisé des plaquettes, d'un chauffage et d'un refroidissement multi-zones, d'un contrôle numérique de la précision de l'alignement et d'un accès complet aux paramètres du processus. Il dispose également de l'enregistrement en deux points et de l'enregistrement local pour les géométries complexes de wafer. MA-56 est idéal pour la fabrication à grande échelle de systèmes MEM de haute précision. Il offre une façon précise et répétable d'aligner et de transférer des motifs sur un substrat, tout en fournissant un enregistrement précis et précis. La suite logicielle complète offre un mécanisme facile à utiliser et flexible pour contrôler tous les paramètres, assurant un alignement et une répétabilité fiables. MA56 est un moyen de haute qualité et économique de produire des masques très précis avec un résultat précis et cohérent.
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