Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9080239 à vendre en France

KARL SUSS / MICROTEC MA 56
ID: 9080239
Taille de la plaquette: 5"
Mask aligner, 5" Converted to manual operation Split field optics.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque conçu pour des applications de photolithographie telles que la production de dispositifs semi-conducteurs. C'est un équipement de haute précision qui permet un transfert rapide et précis du motif d'un maître de film négatif à une plaquette. Il est capable de fonctionner avec des tailles de plaquettes de 200 mm et 157 mm, avec des caractéristiques minimales de 0,5 micron. Le système se compose de deux composants principaux, l'ordinateur central et l'unité de tête. L'ordinateur central est l'unité de base qui contient l'étage de masque, la source d'éclairage et les composants optiques. La machine de tête est montée sur l'ordinateur central et se compose d'un étage XY et d'un entraínement en Z pour contrôler la position du substrat pendant l'exposition. La tête abrite également l'optique de projection, qui focalise l'image du maítre sur le substrat. L'étage de masque utilise un mandrin à vide comme mécanisme de maintien pour aligner le film négatif sur la plaque de masque. Il est équipé d'un microscope pour assurer un alignement précis du film. La source d'éclairage contient à la fois du mercure et des ampoules halogènes pour fournir différentes longueurs d'onde de lumière pour correspondre au matériau du masque. L'étage XY permet un alignement progressif et répété du film sur le substrat. Il a une précision jusqu'à un micron, ce qui permet à l'utilisateur d'effectuer un alignement précis du film sur le substrat. L'optique de projection est une lentille à forte ouverture numérique qui focalise l'éclairage des ampoules sur le substrat. Il est extrêmement précis, avec une résolution inférieure à 0,5 micron. L'axe Z permet un contrôle précis de la position du substrat lors de l'exposition. MICROTEC MA56 est une solution idéale pour les applications de photolithographie, offrant un transfert rapide et précis du motif d'un maître de film négatif à une plaquette. Ses composants et caractéristiques de haute précision permettent aux fabricants de produire rapidement et précisément des dispositifs semi-conducteurs.
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