Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9124210 à vendre en France
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ID: 9124210
Taille de la plaquette: 5"
Mask aligner, 5"
Resolution: 3 µm (proximity) 0.8-1µm (vacuum contact)
Capable of hard contact
Soft contact
Proximity exposure modes
350 Watt CIC500 power supply
Splitfield microscope.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque utilisé pour des applications de photolithographie. Il comporte un étage automatisé à trois axes permettant l'alignement des masques et des substrats en même temps, ce qui le rend adapté à des applications de haute précision. L'unité est compacte et légère, permettant une portabilité facile entre les sites de production et les laboratoires. MICROTEC MA56 est programmable grâce à un logiciel convivial, doté d'une interface graphique intuitive et de menus d'aide guidés. L'interface graphique permet aux utilisateurs de sélectionner facilement les paramètres pertinents et de configurer avec précision l'ensemble de paramètres désiré. KARL SUSS MA-56 est livré avec deux caméras, une pour générer des images de champ de vision et une autre pour aligner les masques et les substrats. La MA 56 est dotée d'un système laser de pointe breveté qui permet de détecter de petites imperfections dans les masques, ce qui permet d'aligner avec une grande précision et d'intégrer des motifs allant de microstructures uniques jusqu'à 25 mm. Son architecture ouverte permet une intégration facile avec d'autres composants d'un processus de production, y compris les systèmes de manutention de masques et de plaquettes. L'unité est conçue pour fournir une qualité d'image maximale, avec deux lentilles différentes pour des plages de longueurs d'onde différentes ; UV et DUV. Pour l'application UV, un NA de 0,4 est prévu pour le chargement et le déchargement uniformes de substrats d'un diamètre pouvant atteindre 150 mm. Ces lentilles sont également compatibles avec les optiques secondaires qui permettent l'agrandissement et l'amélioration de la précision. KARL SUSS/MICROTEC MA56 prend en charge à la fois les systèmes standard de dépôt de couches minces et les systèmes avancés de gravure GaAs, avec un lecteur de marqueurs d'index pour assurer un positionnement facile des masques. Il dispose également d'un obturateur logiciel interne, permettant aux utilisateurs de choisir entre le mode obturateur manuel et la commande automatique. MICROTEC MA-56 est conçu pour permettre un alignement de très haute précision, avec une taille minimale de 0,5 μ m. Il offre également des algorithmes d'optimisation du temps de cycle variable, permettant un traitement plus rapide et un débit plus élevé. Dans l'ensemble, KARL SUSS MA 56 est un aligneur de masque polyvalent et de haute précision, adapté aux applications de photolithographie les plus exigeantes. Il offre une qualité d'image supérieure, un alignement automatisé et des processus à haut débit avec une intervention minimale de l'utilisateur.
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