Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9302582 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un aligneur de masque qui utilise la lithographie optique pour produire des structures microscopiques en photorésist et autres matériaux. L'aligneur se compose de deux composants principaux : un porte-masque et une table pas à pas. Le porte-masque est une plate-forme mécanique qui contient un porte-masque réglable en hauteur, et qui sert à déplacer le masque pour l'aligner avec le substrat. La table pas à pas est une plate-forme motorisée pas à pas qui permet l'alignement micro-niveau des échantillons. MICROTEC MA56 est conçu pour fournir des motifs de haute résolution et l'alignement précis des structures de sous-microns de 200nm à 100nm et dispose d'une ouverture numérique (NA) de 0,8/1. La machine est capable de produire des motifs avec des tailles de caractéristiques aussi petites que 0.5um. Il est également capable d'effectuer un intervalle d'exposition allant de 365 nm à 365 nm avec une taille de pas de 0,5 à 20 microns et un temps d'exposition de 0,1 à 200ms. De plus, la machine est équipée d'une unité de commande de focalisation automatisée permettant à l'utilisateur de prérégler la focale souhaitée, assurant une focalisation parfaitement ajustée de l'étage d'exposition. KARL SUSS MA-56 est alimenté par un logiciel complet conçu pour faciliter le processus d'alignement. Il offre un large éventail d'aides à l'alignement telles que l'auto-exposition (AE), l'auto-focus (AF), l'auto-nivellement (AL), la récupération de focus (FR) et les outils d'optimisation des motifs (PO). En outre, l'équipement est conçu pour la polyvalence, car sa conception modulaire permet des masques échangeables et une variété de systèmes de maintien de substrat. Toutes ces fonctionnalités fonctionnent pour créer des processus de lithographie plus précis et plus efficaces conduisant à une meilleure qualité de fabrication des appareils. MICROTEC MA 56 est un outil optomécanique fiable et très précis pour les applications de photolithographie, utilisé pour produire des motifs complexes et des structures submicroniques utilisant la puissance de la lithographie optique. Il offre une large gamme de caractéristiques pour une lithographie précise et efficace, permettant un moyen plus rapide et plus précis d'alignement des motifs pour la fabrication des dispositifs.