Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9382959 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 56 est un adaptateur de masque semi-automatisé et ultra-précis conçu pour des applications de photolithographie industrielle telles que la fabrication de photomasques, l'imagerie de plaquettes et l'intégration de processus multicouches. MICROTEC MA56 peut aligner un masque (transparence) avec une plaquette (couche de plaque de silicium) sur un niveau de précision nanométrique, permettant de placer avec précision des motifs sur la plaquette. KARL SUSS MA-56 dispose d'un système d'actionnement robotique qui permet une hauteur précise et l'alignement électromécanique d'un masque sur une plaquette avec une répétabilité de 0,5 mm. L'unité utilise un système intuitif de contrôle informatique qui permet une configuration et un fonctionnement faciles. KARL SUSS/MICROTEC MA-56 dispose de systèmes de positionnement laser double avec autofocus à diffraction de poudre haute résolution et interférence optique pour une précision d'alignement et une répétabilité optimales. L'étage XY dispose d'une lecture numérique intégrée, permettant une précision d'alignement allant jusqu'à 0,25 um dans les axes X et Y. Cet alignement de masque offre également une large gamme d'options optiques et mécaniques pour faciliter la production de photomasques de précision pour la fabrication au niveau des plaquettes. De plus, MA 56 comprend divers systèmes d'exposition et options telles qu'un laser à diode pulsée, un générateur de faisceaux ponctuels, une source de lumière et un microscope à grossissement d'alignement. Divers composants optiques tels que les filtres, les lentilles, les faisceaux et les optiques de projection fournissent un rayonnement lumineux intense (typiquement dans la gamme des longueurs d'onde ultraviolettes et visibles) et la capacité de faire varier la taille du faisceau de 25 à 400 microns. MA-56 convient à un large éventail d'applications qui nécessitent un alignement sur mesure et précis du masque à la plaquette. C'est la solution parfaite pour les clients qui ont besoin d'un transfert de motifs précis pour les photomasques complexes et est bien adaptée pour les emballages sous forme de die-to-die, de cell-to-cell et de wafer-level (WLP).