Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6 #9226441 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 6/BA 6 est un aligneur de masque manuel utilisé pour le tissage nanolithographique de haute précision pour photomasques et substrats. Cette machine est utilisée dans la production de masse, la recherche et le développement de dispositifs impliquant des caractéristiques microscopiques. C'est un outil automatisé pour aligner des masques ou des substrats avec une précision et une répétabilité d'étape de 10nm. MICROTEC MA6/BA6 est idéal pour la fixation de photomasques et de substrats grâce à son extrême précision et sa répétabilité. Il s'agit d'un outil de lithographie optique avancé qui comprend deux chambres distinctes, la chambre à masque et la chambre à substrat, pour améliorer la précision et la répétabilité. La chambre de masque dispose d'une porte oscillante à 180 degrés pour le chargement et le déchargement de deux masques dans n'importe quelle configuration d'alignement. Il dispose de deux tables de masque évolutives à 5 positions pour faciliter l'alignement du masque. Le Mask Chamber offre également la possibilité de la traduction et de la rotation manuelle ou automatisée via un étage XYZ motorisé. La Chambre Substrat dispose d'une porte basculante à 180 degrés pour charger et décharger jusqu'à quatre substrats dans n'importe quelle configuration d'alignement. Il dispose également d'une table de substrat évolutive à 5 positions pour faciliter l'alignement des substrats. La Chambre Substrat offre la même translation et rotation manuelle ou automatisée via un étage XYZ motorisé que la Chambre Masque. KARL SUSS MA6/ BA6 utilise un système d'éclairage avancé pour assurer un alignement et une exposition précis du masque au substrat. Il combine à la fois LED et mini-lampe halogène sources d'éclairage pour un contrôle optimal de l'intensité et transmettre l'uniformité. Le système offre également un choix de différents modes d'alignement tels que entièrement automatisé, semi-automatisé et manuel pour différentes applications. Il dispose également d'une technique logicielle de détection de mouvement pour garantir une précision de position supérieure avec les deux sources de faisceau disponibles. MA 6/BA 6 est un excellent choix pour les applications avancées de lithographie car il offre une précision, une répétabilité et une vitesse inégalées. C'est un outil fiable et rentable pour accroître la R-D et la production de masse dans divers domaines, y compris la microélectronique, le MEMS, l'opto-électronique et le stockage magnétique.