Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 6 #9286934 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 6 est un équipement d'alignement entièrement automatisé, de haute précision, de type contact pour la photolithographie. Il est conçu pour le traitement des semi-conducteurs et peut être utilisé pour aligner et modeler des couches de masque de niveau de plaquette avec une précision de sous-micron. Le système dispose d'une étape d'alignement XYZ de pointe pour un positionnement et une mesure précis. MICROTEC MA6 est livré avec un microscope visuel 25x pour l'inspection des défauts, avec un champ de vision jusqu'à 700x pour l'alignement des masques et des plaquettes, et dispose de deux systèmes de magazines indépendants 12 stations pour le chargement des masques. Le microscope peut être utilisé pour l'alignement, l'inspection des procédés, la métrologie de surface et la métrologie des plaquettes. KARL SUSS MA-6 a une imagerie en vue directe avec trois réflecteurs d'angle de cube pour vérifier et repérer la position exacte du masque par rapport à la plaquette. Il peut utiliser l'imagerie par faisceau électronique à balayage, l'exposition i-line et la gestion des données par mémoire pour stocker des informations détaillées sur le processus. L'unité est entièrement automatisée, et le logiciel de contrôle principal est capable de contrôler jusqu'à cinquante-neuf étapes de processus. La machine de base KARL SUSS/MICROTEC MA-6 comprend deux ensembles d'étages d'alignement de masque, un étage d'échantillonnage pour la plaquette, un capteur d'alignement de masque et une source lumineuse, ainsi qu'un logiciel d'alignement de masque dédié et des sous-systèmes de détection d'alignement. Le sous-système de métrologie intégré permet des mesures précises de l'alignement wafer-mask. Il dispose également d'une interface graphique conviviale, ainsi que d'une gamme d'options supplémentaires d'automatisation et d'ingénierie. L'outil MICROTEC MA 6 est utilisé pour une variété de technologies de semi-conducteurs, y compris la fabrication de photomasques, la fabrication MEMS, le circuit intégré 3D et la fabrication de dispositifs microfluidiques. Il peut être utilisé pour le prototypage rapide, la production à petite échelle, et pour obtenir des rendements élevés dans la production de masse. La précision et la rapidité de l'actif en font un choix idéal pour une variété de besoins de traitement des semi-conducteurs.