Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #9352165 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2 est un aligneur de masque semi-automatique utilisé dans le processus photolithographique. Cet aligneur de masque est utilisé pour le traitement de photomasques et de substrats de plaquettes pour créer des dispositifs avec un haut niveau de précision et de précision. La Gen 2 possède une multitude de caractéristiques qui permettent une vitesse, une précision et une fiabilité accrues lors de la gravure et de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. La MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2 utilise la technologie optique la plus récente et l'alignement de précision automatisé pour une modélisation précise à petite échelle. L'alignement de masque est configuré sur mesure pour répondre aux besoins de l'utilisateur avec des fonctionnalités telles qu'un champ de placement de masque réglable, un système d'entraînement moteur pas à pas pour le transport et l'alignement de masque, et un système de positionnement de masque de haute précision. En outre, sa technologie de régulation de température de pointe assure des résultats de dépôt et de fixation cohérents. Afin d'assurer la précision, KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN2 est capable de résolution sous-micron, avec une précision allant jusqu'à +/- 20 nm. Les utilisateurs peuvent configurer l'aligneur pour gérer une large gamme de substrats, y compris ceux d'une surface pouvant atteindre 8 pouces de diamètre. En outre, la machine dispose d'une architecture flexible permettant à l'utilisateur de personnaliser leur configuration pour répondre à une variété d'applications et de besoins de processus. KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2 convient à la fabrication d'une gamme de dispositifs semi-conducteurs tels que circuits intégrés, transistors et puces à mémoire. En outre, son progiciel permet aux utilisateurs d'effectuer un enregistrement et une analyse complets des données, ce qui leur permet de suivre les performances de leur machine avec facilité et confiance. KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen 2 est un aligneur de masque fiable et efficace conçu pour augmenter le débit et la précision de la photolithographie à petite échelle. Grâce à son optique avancée et à ses capacités d'alignement précises, la Gen 2 garantit des résultats de haute qualité. Avec ses options personnalisables, il est un outil industriel parfait pour toute application de fabrication de semi-conducteurs.