Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293609808 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3 est un aligneur de masque de haute précision pour les applications de photolithographie. Ce dispositif effectue l'alignement des masques, l'exposition des plaquettes et le décollage, principalement pour la production de micro-circuits de précision et de masques de photolithographie. Équipé d'un micro-entraînement bidimensionnel, le masque MICROTEC MA8BA8-GEN3 est capable de fournir précision, précision et précision sans sacrifier le temps ou l'effort, même avec des alignements haute densité. KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3 est capable d'une résolution allant jusqu'à 8 microns, avec des fonctionnalités avancées comme l'enregistrement automatique pré-aligné et la commande de focalisation avancée. En outre, l'alignement du masque est sans conducteur et dispose d'un alignement optique pour assurer un positionnement de haute précision. Le dispositif supporte des matériaux spécialisés, tels que des films minces, avec ses mécanismes de manutention optimisés en verre mince. De plus, avec des vitesses d'alignement variables et des réglages angulaires, KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3 est capable de réduire les temps de cycle et d'empêcher la variabilité de focalisation. Pour les besoins de correction et au-delà, une série d'interfaces utilisateur graphique sont présentés qui peuvent aider à l'optimisation et le dépannage de l'alignement de masque. Ceci comprend une fonction de simulation graphique pour assurer des résultats d'alignement précis avant et pendant le processus. Pour garantir une grande précision, l'alignement de masque KARL SUSS MA8BA8-GEN3 supporte également plusieurs positions d'inspection et d'étalonnage, y compris un système de mesure de profondeur sans contact et sans contact. Capable d'accueillir jusqu'à six caméras CCD, la MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3 est adaptée aux applications de traitement par lots ou monobloc. Il dispose également de téléspectateurs montés en tourelle avec faible dispersion thermique pour l'amélioration de l'alignement laser, ainsi que d'un joystick tournant pour un alignement facile. Le masque aligné est alimenté par le logiciel MICROTEC SuperMultiDrive, le rendant compatible avec tous les systèmes de lithographie thermique, électronique et optique standard. Avec une précision et une précision inégalées, l'alignement de masque MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3 fournit d'excellents résultats de lithographie pour les expositions de photomasques et de plaquettes. Offrant des capacités de traitement de plaquettes supérieures, cet appareil est un outil essentiel pour toute installation de micro-électronique.