Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 8 Gen 2 #293609268 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 8 Gen 2 est un aligneur de masque automatisé utilisé dans la fabrication de photomasques à semi-conducteurs. L'alignement de masque est bien adapté pour les grandes tailles de masque et offre une haute résolution et la polyvalence du substrat. C'est un processus en deux étapes qui utilise une exposition de contact et l'impression de projection pour aligner précisément les motifs gravés avec le photomasque conçu. Cela se fait par une série d'étapes soigneusement calibrées qui sont toutes entièrement automatisées. L'équipement est équipé d'un ensemble de tête de balayage aligné de précision et d'une commande logicielle avancée. La tête de balayage acquiert les détails du substrat (largeur de tranchée, courbure, foyer, etc.) à travers les capteurs embarqués et les algorithmes qui sont programmés dans l'unité de commande. Ensuite, la tête de balayage traduit la position prévue du photomasque sur le substrat à travers le système laser et optique. Cela offre une résolution et une précision beaucoup plus élevées que les systèmes traditionnels d'exposition au contact. MICROTEC MA 8 Gen 2 a cinq tailles de lit de substrat : 4, "5", 6, "8", et 12 ". Il a une surface d'impression de projection allant de 75 µm à 300 µm, avec une résolution allant jusqu'à 3 mm. L'unité offre plusieurs conceptions et tailles de plaques de plaquettes, qui permettent à l'utilisateur d'accueillir plusieurs types de substrat. KARL SUSS MA 8/GEN 2 présente de nombreuses caractéristiques au-delà de celles liées aux aligneurs de masques. Il est conçu avec la santé et la sécurité en tête et son architecture ouverte peut être facilement intégrée dans d'autres systèmes automatisés. Il est également conçu pour maximiser la fiabilité et les performances, avec ses cycles de nettoyage et d'étalonnage automatiques. Ses commandes faciles à suivre et ses mécanismes de verrouillage contribuent au transfert efficace des masques à travers la machine. De plus, MA 8/GEN 2 est compatible avec les systèmes Windows et Linux, permettant une intégration facile dans les environnements de produits ou de tests existants. KARL SUSS MA 8 Gen 2 est un choix idéal pour le contact et la production de photomasques. Sa haute résolution, la variabilité du substrat et l'automatisation fournissent un traitement efficace, efficace et précis du masque. Son architecture ouverte et sa compatibilité avec les systèmes existants en font un excellent choix pour de nombreux scénarios de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.