Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 8 #293618546 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 8 est un aligneur de masque conçu pour être utilisé dans les laboratoires de photolithographie. L'équipement offre une précision inégalée et des capacités de traitement supérieures pour les tâches les plus difficiles. C'est un outil de pointe d'alignement optique, contrôlé par ordinateur, qui est utilisé pour créer des masques de contact et d'imagerie avec une résolution micro et nano-échelle. MICROTEC MA8 offre une variété de fonctionnalités qui en font un aligneur de masque idéal pour la photolithographie. Il a automatisé, alignement en temps réel, micron précis de la navigation moteur pas à pas, chargement/déchargement rapide des plaquettes, et une large gamme de travail. En outre, le système est équipé d'une vitesse de répétition élevée, de pivots optiques multiples et d'un boîtier d'optique UV réglable, permettant la meilleure stabilité et précision d'alignement. L'appareil est convivial et facilement réglable en cas de besoin. KARL SUSS MA-8 est capable de traiter différents matériaux de substrat tels que le verre, le silicium, le quartz et le saphir, avec une gamme de substrats allant de quelques millimètres à deux pouces. Cette machine est capable de produire des masques gravés au laser et évaporés à l'ombre avec des résultats de qualité professionnelle. De plus, la technologie autofocus permet un positionnement précis et précis des masques, avec un alignement parfait à chaque exposition. KARL SUSS MA 8 offre la dernière en matière de contrôle de mouvement axial et de sécurité au travail avec son menu de fonctionnement intuitif, des rouleaux automatiques, un outil de bande transporteuse et une table d'exposition. Le programme d'exposition calcule en outre automatiquement le temps d'exposition optimal, et offre une capacité de traitement allant jusqu'à 80 plaquettes ou 20 porte-masques avec une portée de translation maximale de 5 x 5 pouces. En conclusion, KARL SUSS/MICROTEC MA-8 est un aligneur de masque polyvalent et fiable qui offre une multitude de fonctionnalités pour les applications de photolithographie. L'interface conviviale, les capacités d'alignement précises et la variété des traitements de substrat font de cet atout un choix idéal pour différents laboratoires et procédés de photolithographie.