Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA / BA 8 Gen4 Pro #293824970 à vendre en France

ID: 293824970
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2025
Mask aligner, 8" Top Side Alignment (TSA) Bottom Side Alignment (BSA) Motorized X, Y, and Theta alignment stage (0.1 um resolution) Screen split field microscope Motorized fine focus (2) 5x Objectives (2) 10x Objectives UV LED Exposure system MO Exposure optics 9" x 9" Mask holder 8" Chuck with N2 Purge Custom N2 Purge system UV Measurement system Optometer Probe: 365/405nm Double membrane vacuum pump PLC Control 2025 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 8 Gen4 Pro est un adaptateur de masque de pointe conçu pour les procédés avancés de photolithographie dans la fabrication de semi-conducteurs, la recherche et le développement, et les applications de microélectronique. Cet outil d'alignement de précision offre une grande précision et des capacités de débit pour répondre aux exigences exigeantes de la nanotechnologie moderne et de la fabrication de dispositifs MEMS. MICROTEC MA/BA 8 Gen4 Pro dispose d'un design robuste et ergonomique qui assure un fonctionnement stable et la facilité d'utilisation. Son architecture modulaire permet une personnalisation et des mises à niveau futures pour répondre aux exigences évolutives des processus. L'équipement est équipé d'une optique avancée, d'étapes d'alignement précises, d'un contrôle logiciel intuitif et de fonctionnalités d'automatisation intelligente pour optimiser l'efficacité du flux de travail et minimiser l'intervention de l'opérateur. L'un des points saillants de KARL SUSS MA/ BA8 GEN4 PRO est son système optique haute résolution, qui permet une précision d'alignement des sous-microns pour les tâches critiques. L'unité est capable d'aligner les masques et les substrats avec une précision exceptionnelle, assurant le transfert précis des motifs sur la surface du substrat. Ce niveau de précision d'alignement est crucial pour atteindre des tolérances de recouvrement serrées et des motifs à haute résolution dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. MA/BA 8 Gen4 Pro est également équipé d'algorithmes d'alignement avancés et de contrôle logiciel qui permettent d'automatiser les procédures d'alignement, de réduire le temps d'installation et d'améliorer la répétabilité. La machine offre plusieurs modes d'alignement, y compris l'alignement global, l'alignement local et la reconnaissance automatique des motifs, pour tenir compte de diverses stratégies d'alignement pour différentes applications. En plus de ses capacités d'alignement, KARL SUSS/MICROTEC MA/ BA8 GEN4 PRO dispose d'un outil d'exposition polyvalent qui supporte un large éventail de longueurs d'onde d'exposition, de sources lumineuses et de modes d'exposition. L'actif peut gérer divers types de substrats, y compris des plaquettes, des masques et des substrats flexibles, ce qui le rend adapté à diverses applications de lithographie telles que la fabrication de photomasques, la fabrication de dispositifs et la production de capteurs. KARL SUSS MA/BA 8 Gen4 Pro intègre des fonctionnalités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour garantir des résultats de lithographie cohérents et fiables. Le modèle offre des mécanismes de rétroaction en temps réel, de contrôle de dose et d'optimisation de l'uniformité d'exposition pour améliorer la stabilité et le rendement du processus. Son interface conviviale fournit un fonctionnement intuitif et des outils de visualisation des données pour l'analyse et l'optimisation des processus. Dans l'ensemble, MICROTEC MA/ BA8 GEN4 PRO est un aligneur de masque polyvalent et fiable qui répond aux exigences strictes des industries avancées des semi-conducteurs et de la microélectronique. Grâce à son optique haute performance, à ses capacités d'alignement précises, à son flux de travail automatisé et à ses fonctions avancées de contrôle des processus, l'équipement permet aux utilisateurs d'obtenir une résolution de motif supérieure, une précision d'alignement et une efficacité de processus dans la fabrication d'appareils électroniques et de microstructures de pointe.
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