Occasion KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #293743798 à vendre en France

ID: 293743798
Mask aligner.
L'aligneur de masque KARL SUSS/MICROTEC MJB-3 est une machine opto-mécanique de précision conçue pour le traitement photolithographique. Il est principalement utilisé par les industries de la microélectronique et des semi-conducteurs pour fabriquer des dispositifs et des circuits à résolution submicronique. MICROTEC MJB3 utilise une source laser à ondes continues, ainsi qu'un équipement de projection et d'imagerie, pour transférer des motifs d'un photomasque dur vers un substrat de surface de plaquettes. Le système est équipé de deux étages sacrificiels, qui fournissent une unité de positionnement stable et de niveau pour un alignement soigneux du masque et du substrat. Cet alignement est facilité par un scanneur X-Y automatisé très précis et un contrôle de profondeur d'axe Z avec rétroaction en temps réel et une résolution de 1.3 nanomètres. KARL SUSS MJB 3 a une lentille d'éclairage avec une ouverture numérique (NA) de 0,55 qui est capable d'éclairer des masques de 2 "ou 4" ou 6 "ou 8" ou même 10 ", selon la configuration. En outre, MICROTEC MJB-3 est conçu et conçu pour fournir un fonctionnement fiable et une répétabilité haute résolution, avec un temps d'installation minimal nécessaire. Il est équipé d'une pince à vide réglable qui fournit un support réglable pour la plaquette. MJB-3 utilise également un compensateur de ligne et de bord pour un alignement précis du profil de bord. Ce compensateur est composé d'un ensemble d'éléments de distance et d'une unité d'entraînement, ce qui permet un contrôle fin à terre. En termes de sécurité et de contrôle, KARL SUSS MJB 3 est équipé de deux mécanismes d'auto-enclenchement. Le premier est un verrouillage électromagnétique qui empêche l'outil de fonctionner lorsque la chambre et la plaque autofocus sont ouvertes. Le second est un verrouillage à clé qui empêche le personnel non autorisé d'exploiter le bien. MJB 3 est un outil puissant et précis pour le traitement photolithographique. Sa conception modulaire et son modèle de contrôle précis en font un appareil efficace et fiable pour des résultats rapides et précis, même avec des masques et des substrats difficiles. En outre, ses mécanismes d'auto-enclenchement assurent un fonctionnement sûr et sécurisé, ainsi qu'une plate-forme fiable pour la photolithographie de précision.
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