Occasion KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9257920 à vendre en France

ID: 9257920
Mask aligner.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3 est un aligneur de masque utilisé pour la lithographie de faisceaux d'électrons en écriture directe. Il se compose d'un canon à électrons, d'un étage d'alignement, d'un étage de plaquette et d'une colonne. Le canon à électrons émet un faisceau d'électrons focalisés suffisamment précis pour produire des lignes et des formes aussi petites que 10 nanomètres. L'étage d'alignement maintient le réticule sélectionné en place avec une position précise et répétable par rapport à la plaquette. L'étage peut être optimisé pour suivre la structure du faisceau d'électrons avec précision et précision, permettant des expositions répétables. Une lentille de référence peut être ajoutée à l'étage d'alignement pour permettre la focalisation et l'amplification du faisceau d'électrons sur la plaquette. L'étage de la plaquette est où le substrat, la résistance et la cible d'alignement sont maintenus pour l'exposition. Cette étape présente un degré élevé de précision et de répétabilité selon les axes X et Y. Les étages peuvent être configurés pour une variété de tailles de plaquettes, avec la possibilité de scanner plusieurs plaquettes en une seule session. La colonne contient une série de lentilles, d'ouvertures et d'électrodes de grille qui focalisent le faisceau d'électrons. Ces composants travaillent ensemble pour optimiser la forme, la taille et l'intensité du faisceau, ce qui permet d'acquérir des données précises même dans un environnement dense. MICROTEC MJB3 dispose d'un logiciel puissant qui contrôle l'alignement et permet la formation de couches complexes avec précision. Il peut également être configuré avec une chambre d'environnement qui lui permet de fonctionner en présence de vapeur d'eau, d'humidité et de chaleur. Cela permet à l'utilisateur de faire des expositions plus précises et répétables. La combinaison de l'alignement avancé, l'étage de plaquette précis et le logiciel puissant, font KARL SUSS MJB 3 convient pour la production à haut débit, haute résolution des circuits et dispositifs semi-conducteurs. La combinaison de fonctionnalités en fait également un excellent choix pour le modelage et le prototypage personnalisés des circuits intégrés.
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