Occasion KARL SUSS / MICROTEC MJB-4 #293751563 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MJB-4 est un aligneur de masque développé par MICROTEC. Il s'agit d'un équipement d'alignement de contact de pleine précision conçu pour des substrats non uniformes. Il est composé d'un étage x/y mobile précis et d'un objectif d'alignement, permettant un alignement micropattern précis de la résine photosensible lors des opérations de lithographie. Le système comporte deux composantes principales : le support principal et la paire d'objectifs d'alignement. Le support maître maintient les substrats en place avec des pinces mécaniques, et les objectifs d'alignement fournissent un alignement précis d'un réticule lithographique initialement aligné. Les pinces mécaniques assurent la stabilité tout en minimisant la distorsion d'alignement due à une pression de serrage élevée. Les objectifs contiennent des lentilles réglables de précision pour fournir la précision d'alignement nécessaire. La précision de MICROTEC MJB4 est obtenue en utilisant une unité cinématique exclusive, qui consiste en des plaques de verre de surface extrêmement planes et parallèles commandées par des ressorts de force tangentielle réglables. La précision de la machine de compensation de pression permet une exposition extrêmement précise des micro-motifs. Les objectifs d'alignement sont équipés d'un lecteur de focalisation électronique dépendant de la vitesse, permettant un alignement rapide et précis des substrats. KARL SUSS MJB 4 dispose d'un outil d'exposition plein champ, permettant l'exposition de grands substrats avec facilité. L'actif est capable de résolution submicronique, à la fois dans l'axe des x et dans l'axe des y, assurant une exposition précise des motifs. Les accessoires de support offrent une large gamme d'hébergement pour les substrats de différentes formes, tailles et contenu matériel. Cet alignement de masque est idéal pour les organisations impliquées dans la microélectronique, l'optoélectronique, les technologies d'affichage à écran plat et d'autres applications de lithographie de précision. Il offre une précision supérieure et des performances répétables, capable de fournir des résultats de haute qualité dans les opérations d'exposition plein champ.