Occasion KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9192045 à vendre en France

ID: 9192045
Mask aligner.
KASPER/EATON/QUINTEL 2001 est un type d'aligneur de masque, qui est un équipement sophistiqué de fabrication de semi-conducteurs utilisé dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres dispositifs de nanotechnologie. Cet alignement spécifique se compose de quatre composants primaires, un étage de plaquette, un réticule, un masque et une source lumineuse. L'étage de plaquette est la table sur laquelle la plaquette et d'autres éléments sont placés. Le réticule est une plaque à commande électronique, qui abrite et déplace précisément le masque et la plaquette pendant l'exposition. Le masque est une plaque métallique avec des fenêtres transparentes et opaques à des endroits prédéterminés, et sert de motif topographique ou d'image à écrire sur la plaquette. L'image originale est stockée dans la mémoire du masque et transférée au masque au besoin. Enfin, la source lumineuse illumine le masque pour que son motif soit projeté sur la puce lors de l'exposition. L'alignement de masque EATON est conçu pour fournir un alignement très précis du masque et de la plaquette pour la meilleure résolution possible. Il est capable de scanner toute la surface de la plaquette avec une taille minimale de moins de 1µm, et sa précision est au niveau de 0.5µm. De plus, il offre un alignement bord à bord de 5µm sur la puce complète (300 mm2) et une précision d'alignement de 35nm x-y. KASPER masque aligner a d'autres fonctionnalités qui augmentent sa précision et ses performances, comme son contrôle précis du point d'extrémité. Cette fonctionnalité surveille l'ensemble du processus d'analyse, et peut arrêter l'analyse à tout moment du processus pour une enquête plus approfondie. L'alignement comprend également des diagnostics intégrés qui fonctionnent constamment en arrière-plan, aidant à identifier rapidement les défauts ou les problèmes qui peuvent survenir. Enfin, sa série d'outils logiciels facilite la précision du processus d'alignement, y compris les mesures de superposition 3D avec une précision de 1 µm. Globalement, le masque aligneur QUINTEL est conçu pour écrire précisément des images et des motifs sur des puces, et est essentiel pour créer des semi-conducteurs et d'autres dispositifs de nanotechnologie hautement avancés et fiables. Il fournit un alignement très précis, des capacités de haute résolution, des diagnostics avancés et des outils logiciels. C'est donc un élément essentiel du paysage moderne de la fabrication des semi-conducteurs.
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