Occasion KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9238375 à vendre en France

KASPER/EATON/QUINTEL 2001 est un assortiment masque multi-gigahertz de haute précision. Il est conçu pour produire des masques et des plaquettes de haute précision et de petite taille pour la synthèse de circuits intégrés (IC) et d'autres dispositifs micro-électromécaniques (MEMS). Cet aligneur de masque de pointe utilise une technique d'imagerie directe brevetée pour obtenir une précision de niveau nanométrique. EATON 2001 est équipé d'un photomasque contenant des caractéristiques structurées placées dans une grille précise. Le photomasque est placé sur une plaque de positionnement de la plaquette et est exposé à un rayonnement lumineux ultra-violet (U.V) de haute intensité. La lumière est ensuite focalisée sur les plaques photomasques à l'aide d'un aligneur motorisé. L'alignement est très précis et précis et crée une grille à motifs très uniforme sur la plaquette. KASPER 2001 utilise un système de pas de plaquette de haute précision pour déplacer la plaquette d'un point à un autre sur la plaque de positionnement de la plaquette. Ce processus d'alignement est répétable et permet au masque aligné de produire des images de haute qualité et de haute résolution. Le système pas à pas est conçu pour fonctionner à une vitesse maximale d'un centième de millimètre par minute. Cela rend le système très précis et permet un positionnement précis des plaques photomasques. Le masque aligneur QUINTEL 2001 dispose également d'un contrôle de focalisation automatique pour assurer la formation précise et répétable de l'image. Cet alignement de masque offre également des fonctionnalités de masque à réticule. Cela permet à l'utilisateur d'aligner un photomasque et un réticule pour produire facilement des images à haute résolution. 2001 est un alignement de masque très polyvalent et avancé qui convient à de nombreuses applications. Cette machine puissante peut être utilisée pour la fabrication de masques, la photolithographie, la fabrication de plaques photomasques et de réticules, la création de plaques d'essai micro-électroniques et plus encore. C'est la solution idéale pour ceux qui ont besoin de systèmes d'alignement de masque haute précision et haute résolution.