Occasion M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392 à vendre en France

M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV masque aligner est un équipement de haute performance qui est utilisé pour transférer avec précision des motifs de circuits électriques et optiques fins sur des substrats semi-conducteurs ou des plaquettes. Cet alignement de masque est conçu pour être à la fois convivial et rentable. Il utilise des algorithmes et des logiciels avancés qui permettent aux utilisateurs d'aligner rapidement et avec précision les modèles de circuits, tout en surveillant le processus d'alignement et les résultats. Le AG2000-8NDSAV fournit une précision optimale et permet également des tailles de motifs jusqu'à 12 mm par 12 mm avec une répétabilité d'alignement de 0,1 microns. Ceci le rend idéal pour une utilisation dans la fabrication de substrats pour la fabrication de circuits et composants intégrés semi-conducteurs. Cette machine utilise un axe x-y d'alignement fin pour aligner les motifs. Le AG2000-8NDSAV dispose d'un objectif de projection avancé « Ganfure » et d'un système de caméra haute définition. Cette unité intègre également des optiques lithographiques et d'autres composants qui permettent aux utilisateurs d'aligner précisément les motifs sur le substrat. Une fois les motifs alignés, la machine utilise des faisceaux d'énergie pour transférer les motifs sur le substrat afin de créer des motifs. En contrôlant la zone d'exposition et l'intensité du faisceau d'énergie, l'outil s'assure que les motifs sont transférés avec précision. Cet aligneur de masque possède également un actif de chauffage sophistiqué du substrat qui assure la cohérence de la température de la plaquette pendant tout le processus de lithographie. Une autre grande caractéristique du AG2000-8NDSAV est son « Auto Sampling Scan ». Cette caractéristique garantit que l'exposition des motifs est cohérente et uniforme car elle balaye l'ensemble du substrat. Le modèle dispose également d'un processus d'enregistrement de données facile à utiliser qui permet aux utilisateurs de stocker les données d'exposition et d'analyser les résultats. En outre, le AG2000-8NDSAV a une conception puissante de collecteur de vide qui permet un meilleur traitement des gaz résiduaires et l'efficacité énergétique. En outre, cette machine comprend un langage de programmation avancé qui permet aux utilisateurs de programmer et personnaliser facilement divers paramètres d'alignement. En conclusion, M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV masques aligner est un équipement puissant, économique et convivial qui est un excellent choix pour produire des substrats complexes et des circuits intégrés. Il fournit aux utilisateurs un alignement de motif de précision et une commande d'obturateur de scène, ainsi qu'une fonction d'analyse d'échantillonnage automatique. En outre, la conception puissante du collecteur à vide et le processus d'enregistrement des données font de ce masque aligner un excellent choix pour les fabricants de circuits intégrés.