Occasion M & R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V #9191076 à vendre en France

M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V est un aligneur de masque haute performance qui est utilisé pour la production de grandes quantités de produits semi-conducteurs avec un haut degré de précision. Cet aligneur de masque est spécialement conçu pour la flexibilité des procédés de pointe et l'évolutivité de la production. Il offre un large éventail de capacités d'alignement et d'exposition qui peuvent être utilisées dans une variété de technologies de semi-conducteurs, y compris les motifs de couches actives, les structures d'interconnexion et la métallisation au niveau des dispositifs. En termes de conception, le NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V est équipé de lentilles à 3 étages à large champ et de systèmes d'alignement des plaquettes qui garantissent une grande précision et un débit élevé. Ces systèmes de réglage permettent d'affiner l'alignement de chaque poste d'exposition pour des produits de taille quelconque. En outre, le masque aligneur a une grande structure cloisonnée pour le stockage et le transfert des plaquettes, ce qui contribue à fournir un processus de production sûr et efficace. Le NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V est également livré avec un masque pivotant qui assure un alignement directionnel précis et l'exposition du masque. Cette unité peut être programmée pour un positionnement précis et peut être utilisée pour varier les paramètres d'exposition pour différents types de plaquettes. En outre, il a également un programme de résolution et de précision pré-programmé qui assure que chaque exposition est correctement effectuée. Le NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V est également équipé d'un système automatisé de préparation de masque qui fournit un apport efficace de vide et de gaz aux couches de passivation pour le dépôt de résines. Ce système permet également une gamme de tâches telles que le nettoyage des photomasques et le transfert des masques pour une meilleure précision. La technologie NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V est également livrée avec un système de contrôle d'entrefer de haute précision qui permet l'exposition des caractéristiques de la couche critique. Cela permet un meilleur contrôle des procédés et contribue à garantir la qualité de la fabrication des plaquettes à grande échelle. Globalement, AG359-6N-D-S-S-V est une solution idéale pour la production de produits semi-conducteurs haut de gamme. De ses caractéristiques de conception et de ses capacités de réglage à ses systèmes automatisés de préparation de masque et de contrôle des écarts d'air, cet alignement de masque assure des résultats d'exposition très précis et reproductibles. Il s'agit donc d'une ressource précieuse pour toute installation moderne de traitement des semi-conducteurs.