Occasion MIDAS MDA-12FA #9382380 à vendre en France

MIDAS MDA-12FA est un aligneur de masque utilisé pour transférer des motifs de composants de circuits sur des photomasques de silicium. Il est spécialement conçu pour les applications de masque qui nécessitent un haut degré de précision. L'équipement comprend à la fois du matériel et des composants logiciels. Le matériel comprend un système de microscope optique, un moniteur LCD haute résolution, un positionneur linéaire X-Y et un étage de plaquette à faible bruit et haute résolution. Le composant logiciel comprend des algorithmes de reconnaissance automatique et manuelle des motifs, une interface utilisateur graphique (interface graphique) basée sur Windows, une unité complète de contrôle automatique de l'exposition (AEC) et un module de conception de masque. L'unité offre 12 fois le grossissement microscopique et la reconnaissance rapide des motifs. La précision d'alignement est de 0,04 micron et la stabilité de l'étage est de 0.Yes01 micron. Le contraste d'image pleine résolution est de 0,14 et l'échelle de gris complète est de 6 bits. Un algorithme automatisé de correction de position des plaquettes est inclus dans l'unité pour réduire le désalignement des plaquettes entrantes. La machine est conçue pour être compatible avec la photolithographie (pour l'exposition et le développement) et les applications d'imagerie (pour le stockage de données). Il supporte des applications photomasques positives et négatives et est capable d'imprimer de grandes images avec une résolution allant jusqu'à 1000 dpi. L'unité est conçue avec plusieurs caractéristiques de sécurité telles que l'arrêt automatique et les arrêts d'urgence. L'outil logiciel offre la possibilité de visualiser, modifier et analyser des modèles complexes. L'utilisateur peut sélectionner et programmer la résolution, la taille et la rotation des motifs, ainsi que la grille d'image et la taille du clip. Il existe divers outils tels que la mesure, le zoom, la rotation, l'étirement et la correction qui peuvent être utilisés pour optimiser le positionnement des motifs. Le module de conception de masque peut optimiser les paramètres d'exposition afin de réduire les défauts. MDA-12FA est polyvalent, abordable et facile à utiliser, ce qui en fait un choix parfait pour les applications de fabrication de masques qui nécessitent une grande précision et flexibilité. Il offre des performances inégalées, ce qui en fait un outil précieux pour les professionnels de la photolithographie.