Occasion MIDAS MDA-12FA #9400525 à vendre en France

MIDAS MDA-12FA est un adaptateur de masque de photolithographie avancé conçu pour la fabrication d'appareils au niveau des plaquettes. Il est conçu pour traiter différents types de processus de formation de puces, y compris la métrologie à haut débit des plaquettes et l'emballage au niveau des plaquettes. L'équipement est capable de manipuler des plaquettes de 6 pouces, 8 pouces, 12 pouces et 15 pouces, qui peuvent être alignés avec précision à une résolution de 50 microns ou mieux. Le système se compose d'un ordinateur central, d'une tête de lithographie et d'un mécanisme de mise en scène. L'ordinateur central contient la table d'alimentation et les systèmes de commande d'exploitation, ainsi que l'unité électrique principale pour alimenter les composants de la machine. La tête de lithographie est la partie la plus importante de l'outil, et contient un ensemble d'optiques haute résolution et le mécanisme de l'étage principal. L'optique est utilisée pour ajuster avec précision le niveau du masque, ce qui assure une exposition uniforme sur l'ensemble de la plaquette. Le mécanisme d'étage permet un alignement précis de la plaquette et du masque selon les axes X et Y. En plus du cadre principal et de la tête de lithographie, l'actif comprend également une gamme d'outils, y compris des moniteurs d'alignement et des logiciels. Le moniteur d'alignement est utilisé pour mesurer la position précise de la plaquette dans le modèle. Le logiciel est utilisé pour contrôler les différentes étapes du processus de lithographie, y compris la concentration de la résine photosensible, le temps d'exposition et le niveau de focalisation. MDA-12FA est conçu pour être intégré avec d'autres systèmes et installations de lithographie, permettant un accès plus facile à un large éventail de tailles de fonctionnalités et de niveaux de complexité. L'équipement a des caractéristiques qui peuvent être ajustées pour améliorer la focalisation, et peut également être utilisé pour l'alignement de haute précision et l'imagerie des substrats. MIDAS MDA-12FA est un alignement de masque avancé qui fournit une amélioration de la fabrication de l'appareil au niveau des plaquettes. Il est conçu pour gérer une large gamme de processus de formation de puces avec des capacités d'alignement de précision jusqu'à 50 microns. Le système est facile à intégrer avec d'autres systèmes de lithographie, et fournit une gamme de fonctionnalités qui peuvent aider à améliorer la focalisation et les caractéristiques d'imagerie.