Occasion MIDAS MDA-400M #9276070 à vendre en France

MIDAS MDA-400M est un Masque Aligné avancé conçu pour des applications de photolithographie de précision. C'est un équipement haut de gamme qui offre des capacités d'imagerie haute résolution et des performances exceptionnelles. Le système est conçu avec la dernière technologie d'alignement de masque et le contrôle logiciel avancé. MIDAS MDA 400 M utilise une unité de microscope pour le placement de motifs sur le substrat. Le microscope offre un champ de vision jusqu'à 4 « x 4 » et un grossissement jusqu'à 50X. L'image est affichée sur un écran LCD à l'aide de la machine à microscope pour une révision et un placement plus faciles. Cet outil fournit également une précision d'alignement des ≤2µm dans le plan X-Y. La caractéristique la plus remarquable de MDA-400M est sa vitesse d'imagerie élevée. L'actif peut produire un champ de vision de 4 « x 4 » à 6 minutes à plat. En outre, le modèle dispose également de courant de faisceau réglable, profondeur de mise au point réglable, et l'espacement des lignes réglable. Cela permet aux utilisateurs de faire l'exposition la plus optimale pour atteindre le modèle souhaité. L'équipement est également conçu avec un système de focalisation automatique sophistiqué qui fonctionne en combinaison avec l'unité de microscope pour un placement extrêmement précis. La machine est également livrée avec un algorithme d'optimisation sous vide révisé pour améliorer les performances et la résolution. Le MDA 400 M dispose également d'une fonction d' « alignement des ombres » pour éviter qu'un motif ne se déplace de la zone de concentration souhaitée. L'outil fournit également un haut degré de fiabilité dans le processus de saisie de données de masque. En outre, l'actif dispose également d'une interface utilisateur graphique facile à utiliser qui permet un fonctionnement fluide et efficace. Dans l'ensemble, MIDAS MDA-400M est un modèle Mask Aligner haut de gamme qui offre un emplacement précis et des capacités d'imagerie exceptionnelles. Sa conception révolutionnaire, ses caractéristiques avancées et ses performances élevées en font un choix idéal pour les applications de photolithographie de précision.