Occasion MIDAS MDA-80MS #9359652 à vendre en France

MIDAS MDA-80MS est un adaptateur de masque de pointe conçu pour les applications de photolithographie. Il est capable de produire des masques très précis avec une précision de niveau nanométrique et un taux de répétition élevé. L'équipement offre une large gamme de capacités de résolution allant de 10 à 100 nanomètres de résolution. Il peut également accueillir divers matériaux de substrat tels que des feuilles de plastique, du silicium, du verre et du quartz. MDA-80MS dispose d'un ensemble de caractéristiques de conception avancées pour assurer sa précision et sa fiabilité. Il a une disposition optique très optimisée avec des objectifs doubles, ce qui lui permet de scanner de plus grandes zones avec une plus grande précision. Le système dispose également d'un réseau de fonctions d'alignement automatique pour assurer un alignement précis entre le masque et le substrat. En outre, MIDAS MDA-80MS peut être ajusté pour accueillir une variété de surfaces de substrat, telles que plates, effilées et ondulées. L'unité est intégrée à une machine de chargement/déchargement automatique, qui permet le chargement et le déchargement rapides et précis des masques lors de la commutation entre masques. Il comprend également une gamme de fonctions de capture d'images, telles que l'imagerie 2D et la visualisation de masques. Ces fonctions permettent à l'utilisateur de surveiller avec précision le processus de fabrication du masque, permettant une rétroaction précise sur le processus de production. MDA-80MS dispose également d'une gamme de logiciels et de matériel lithographiques pour garantir une efficacité et une précision maximales. L'outil peut être intégré à divers programmes et instruments, comme les ordinateurs, les programmes de CAO et les systèmes de métrologie et d'inspection. Cela permet une intégration facile et efficace de l'actif MIDAS dans un processus de photolithographie. MIDAS MDA-80MS est un aligneur de masque fiable, convivial et très avancé qui peut être utilisé dans une large gamme d'applications de photolithographie. Son large éventail de capacités permet un alignement précis et précis des masques pour obtenir des résultats d'imagerie optimaux. Ses fonctions avancées et ses capacités d'intégration en font un choix idéal pour l'alignement des masques dans le processus de photolithographie.