Occasion MYRIAD SEMICONDUCTOR 2001 #9397742 à vendre en France

MYRIAD SEMICONDUCTOR 2001 Mask Aligner est un outil de lithographie de précision pour la réalisation de circuits intégrés de haute qualité. Il offre un alignement précis des photomasques sur un substrat grâce à des procédures automatisées d'alignement des masques. Le Masque Aligner offre un alignement précis des photomasques sur un substrat grâce à des procédures automatisées d'alignement des masques. Il offre un alignement précis des motifs photomasques sur les motifs sur le substrat en utilisant des techniques actives d'alignement par déphasage, puis utilise des méthodes optiques et mécaniques pour assurer une culture, un placement et un recouvrement parfaits des motifs. Le Masque Aligner utilise un équipement interférométrique laser qui lui permet d'effectuer un alignement précis des masques avec une précision extrêmement fine. Ce système est appelé HPLGS (High-Precision Laser Guided Unit) qui assure un alignement précis en reconnaissant les différences géométriques des formes du motif sur le substrat et du motif sur le masque. Le Masque Aligner est capable de produire des images à très haute résolution, avec une résolution d'image de 0,6 microns ou moins. Cela permet aux concepteurs de circuits de créer des motifs complexes avec un haut niveau de précision. Le Masque Aligner est également capable de produire plusieurs images à différentes orientations simultanément, permettant des conceptions de circuits qui nécessitent de nombreuses images pour être produites rapidement et facilement. Le Masque Aligner est très automatisé, ce qui élimine le besoin de placement manuel du masque. Il dispose également d'une conception ergonomique et d'une interface utilisateur, permettant une configuration et une maintenance faciles. Le dispositif est également livré avec une machine de sécurité intégrée qui ferme la machine si des irrégularités sont détectées. En outre, le Mask Aligner est capable d'interagir avec une variété de bases de données et de logiciels CAO, permettant une conception efficace et la production de prototypes. Cette fonctionnalité avancée permet des temps de réponse rapides et la production de plusieurs versions prototypes sans exiger de l'utilisateur de programmer manuellement le Masque Aligner pour chaque projet individuel. Dans l'ensemble, 2001 Mask Aligner est un outil de lithographie très capable et précis qui permet la production de conceptions de circuits à très haute résolution. Son alignement de précision et ses capacités de placement automatisé des masques en font un outil inestimable pour les concepteurs de circuits.