Occasion NANO SYSTEM DL-100 #9208181 à vendre en France

NANO Equipment DL-100 est un aligneur de masque conçu pour l'alignement de masque de précision pour les processus de fabrication de nano-échelle. Le système est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 4 pouces de diamètre, ce qui lui permet d'être utilisé dans un large éventail d'applications. L'unité est composée de trois composants principaux : l'unité Aligner, l'étage optique et l'étage Wafer. L'unité Aligner se compose d'un tableau d'objectif et d'une machine de commande avec des mesures en temps réel et un logiciel convivial. L'étage optique, qui est le cœur de l'outil, est composé d'un microscope optique de précision et d'une caméra haute résolution. Le Wafer Stage est conçu pour assurer un positionnement précis et une tenue sécurisée de la plaquette pendant le processus d'alignement. Le microscope optique, avec un grossissement allant jusqu'à 400x, est utilisé pour agrandir l'image et positionner avec précision le motif sur la plaquette. La caméra fournit des expositions in situ de la plaquette à motifs et capture les résultats d'alignement. Le logiciel offre à l'utilisateur une large gamme de fonctions d'alignement, y compris la reconnaissance de motifs et le centrage automatique, qui peuvent réduire considérablement le temps d'alignement, ce qui maximise la productivité. L'actif de contrôle permet également une large gamme de séquences G-Code et de macro-programmation pour automatiser les processus et rationaliser la mise en page des modèles jusqu'à une seule ligne de code. DL-100 offre une grande précision pour l'alignement des motifs, permettant de présenter la conception avec précision avec une quantité minimale de déchets. Il est capable de produire des motifs complexes et complexes à grande vitesse, et peut effectuer des réglages en temps réel grâce à son modèle de commande avancé. Ceci est bénéfique pour les industries semi-conductrices en raison de sa capacité de débit élevée. NANO Equipment DL-100 est un système idéal pour réaliser des modèles et des processus de haute précision. Sa combinaison d'optique puissante, de logiciels avancés, de contrôle multi-axes et d'alignement précis peut facilement atteindre le plus haut niveau de précision et de vitesse pour le processus de wafer. Avec sa conception polyvalente, DL-100 peut prendre en charge un large éventail d'applications, y compris le balisage 3D, la gravure profonde et le dépôt de couches minces.