Occasion NIKON FX-801M2 #293621619 à vendre en France

Le masque NIKON FX-801M2 aligner est un équipement entièrement automatisé et optimisé pour l'optimisation lithographique des dispositifs semi-conducteurs. Il est largement utilisé pour la réduction de la taille du silicium, la production de dispositifs à grande vitesse et l'intégration 3D pour diverses applications, y compris les IC logiques, les IC à mémoire, les dispositifs émetteurs de lumière (LED) et les transistors à couches minces (TFT). FX-801M2 masque aligner offre une grande précision et la productivité de la fabrication de l'appareil dans un environnement convivial. L'alignement de masque NIKON FX-801M2 se compose de plusieurs chambres et structures, dont un étage de plaquette, un étage de masque et une chambre d'exposition. Les étages de wafer et de masque sont équipés de la série CANSTAGE EQ Series, équipée d'un système de ceinture à sens unique. Cette unité est capable de fournir une force de transmission élevée et un positionnement très précis de la plaquette et du masque. La chambre d'exposition est ce qui fait FX-801M2 masquer aligner spécial et se compose d'un certain nombre de composantes telles qu'une lentille de condensateur et une source de lumière de Pascal. Ces composants permettent une optimisation lithographique à haut rendement. L'étage de plaquette de l'aligneur de masque NIKON FX-801M2 offre une course prolongée de 450 x 350 mm et dispose d'une machine de détection de marques ainsi que d'un outil de jauge laser. Cet atout permet un positionnement très précis des plaquettes. L'étage de masque est capable de basculer automatiquement entre deux masques pour un large éventail de types d'alignement. Il dispose également d'une fonction dédiée à la détection de masques, permettant un alignement efficace des masques qui comprend un algorithme MTF unique. FX-801M2 masque aligner est également équipé d'un certain nombre de fonctionnalités et de paramètres que les utilisateurs peuvent adapter à leurs besoins. Ces paramètres comprennent les paramètres d'exposition, l'intensité lumineuse, la vitesse d'obturation, la précision de pré-alignement, la précision du décalage d'image et l'offset d'intensité. De plus, NIKON FX-801M2 masque aligner a une fonction d'évaluation de la qualité qui analyse automatiquement les images de lithographie pour vérifier le mouvement et la qualité. Globalement, FX-801M2 masque aligner est un modèle avancé qui est conçu pour rendre l'optimisation lithographique rapide et précise. Il a une précision de positionnement exceptionnelle et offre divers réglages pour le réglage en fonction des besoins individuels. En outre, sa facilité de fonctionnement et son environnement convivial en font un excellent choix pour toute production d'appareil.