Occasion OAI 30-079-31 #9026299 à vendre en France

OAI 30-079-31
Fabricant
OAI
Modèle
30-079-31
ID: 9026299
Edge bead remover.
OAI 30-079-31 est un aligneur de masque conçu pour les besoins de la photolithographie et de la photographie. Il est utilisé pour traiter, à l'aide du masquage, un large éventail de substrats et de matériaux tels que le verre, le silicium, les matrices, les PCB et les plaquettes. L'aligneur de masque 30-079-31 présente une grande zone de substrat clair et un mécanisme d'exposition sans contact et non destructif. Il est équipé de plusieurs machines de haute technologie dont un accéléromètre ionique avancé qui permet d'améliorer la précision d'alignement et un grand collimateur qui assure un motif d'irradiation homogène. En outre, son système optique extensible et bien structuré dispose de nombreuses capacités techniques, y compris la capacité de traiter des substrats jusqu'à 2000 mm dans la taille, et son système de vision machine avancé permet des modèles complexes et l'analyse d'image. Pour le marquage, OAI 30-079-31 utilise des techniques d'alignement rectiligne, circulaire ou matriciel. En outre, ses moteurs pas à pas permettent un réglage de haute précision et une précision de pointage superbe, permettant une flexibilité et un contrôle maximum lors de l'application de motifs. De plus, l'équipement est également très configurable et capable de programmer différents paramètres. Ces paramètres comprennent le nombre d'expositions, la puissance des lentilles, le temps d'exposition, le taux de répétition des impulsions, la surface irradiée et la longueur d'onde. Sa conception comprend également un logiciel convivial avec une interface graphique intuitive (interface graphique). 30-079-31 est conçu pour être utilisé dans un large éventail d'industries en raison de sa vaste gamme de processus et de configurations. Elle s'est avérée efficace dans la fabrication de cartes automobiles, optoélectroniques, aérospatiales, semi-conductrices et imprimées (PCB). Dans l'ensemble, l'alignement du masque OAI 30-079-31 facilite le processus de photolithographie et de photographie pour un large éventail de matériaux et de substrats. Il permet un alignement précis et fiable et est également très configurable avec une interface graphique conviviale. C'est un outil idéal pour un large éventail d'industries, de l'automobile à l'optoélectronique.
Il n'y a pas encore de critiques