Occasion OAI 400 #9024062 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9024062
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6"
For up to 6 x 6" squares or wafers
Collimated lens, 10"
Stereozoom optics
Lamp
Power supply: 350 W.
OAI 400 est un équipement d'auto-alignement optique conçu pour l'alignement à grande échelle de plaquettes utilisé dans le processus de photolithographie grand public. 400 a un design intégré avec un séparateur de faisceau à réflexion quadruple très précis et miroir courbé, qui permet un alignement rapide et précis à 0,2 micron niveaux. Cela permet un alignement automatique supérieur du niveau des plaquettes pour une grande surface jusqu'à une échelle de plaquettes OAI 400 mm. Le système d'auto-alignement optique est principalement composé d'une tête 400, d'un étage de masque, d'un étage de plaquette et d'un contrôleur. L'OAI 400 dispose d'un masque et d'un étage de plaquettes avec de grandes plages de déplacement qui offrent de larges champs de vision pour effectuer des mesures précises et de haute précision. Le contrôleur est utilisé pour coordonner tous les mouvements de l'unité. La tête d'alignement peut être réglée avec différentes configurations pour un large éventail d'applications. La machine dispose de deux caméras CCD indépendantes pour capturer différents angles d'une plaquette et d'une image de masque en même temps. En ce qui concerne la précision d'alignement, 400 offre un niveau impressionnant de 0,2 micron dans le plan x-y. Cet aligneur de masque utilise un contrôleur de mouvement à cinq axes pour un positionnement précis dans la direction z. OAI 400 dispose également d'un algorithme d'alignement à grande vitesse qui permet d'aligner automatiquement une image de masque avec une image de plaquette à 200 ms/alignement. Ses algorithmes et fonctionnalités avancés de traitement de la vision le rendent idéal pour les grands alignements de masques. L'outil peut traiter les images rapidement et avec précision, et les résultats sont faciles à interpréter. En outre, 400 a également un actif d'étalonnage intégré avec un environnement étroitement contrôlé pour un alignement précis et fiable. Ce modèle d'étalonnage peut être configuré pour ajuster différents paramètres pour différentes exigences d'application. OAI 400 est compatible avec de nombreux processus DFM, tels que le logiciel d'alignement avancé et l'alignement laser. Il est également conçu pour fonctionner dans un environnement de vide. Dans l'ensemble, 400 est un équipement fiable et rentable d'alignement de masque pour la construction de grandes surfaces. Il est facile à utiliser et offre un alignement très précis à des niveaux de 0,2 micron, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des procédés de photolithographie de haute précision. Son système de calibration intégré et les algorithmes avancés de traitement de la vision permettent des lectures rapides et fiables, faciles à interpréter. Il est également conçu pour fonctionner dans un environnement de vide, ce qui le rend adapté à l'utilisation avec l'alignement laser.
Il n'y a pas encore de critiques