Occasion OAI 5008 #9155197 à vendre en France

OAI 5008 est un aligneur de masque de haute précision conçu pour les applications de photolithographie de prochaine génération. C'est un équipement plein champ d'exposition aux UV qui utilise la technologie des sources lumineuses et des paliers qui est capable de supporter une large gamme de dimensions de plaquettes, de 100mm à 8 pouces (200mm) substrats. 5008 est construit pour assurer une exposition précise du photomasque sur la plaquette. Il le fait en utilisant une précision de positionnement pas à pas, et en fournissant une répétabilité ± 0,5 μ m. Le système offre une large gamme dynamique d'énergie d'exposition, de 0,2 millijoule à 20mJ, et une large gamme d'options d'exposition multiples. L'unité dispose d'une machine interférométrique laser qui fournit un alignement absolu, et d'un outil optique d'éclairage de contour qui permet une qualité d'exposition uniforme. De plus, il dispose d'un alignement de vision automatique avec une précision maximale de 1,5 μ m ainsi que d'algorithmes automatisés d'optimisation de l'alignement. L'actif dispose également de divers systèmes de contrôle qui offrent une large gamme de fonctionnalités pour améliorer ses performances. Il dispose d'un logiciel de contrôle de processus qui a diverses fonctionnalités telles que le contrôle des paramètres d'exposition, la gestion et la surveillance de l'exposition, et le rapport de performance afin d'assurer une performance cohérente et élevée. En outre, il dispose également d'un modèle de contrôle avancé des processus (APC) avec des modules de contrôle statistique des processus (SPC) et d'optimisation en temps réel (RTO) pour surveiller et améliorer précisément les performances des processus. OAI 5008 est un aligneur de masque haut de gamme qui offre une excellente précision, fiabilité et cohérence. Ses caractéristiques de haute précision en font le choix idéal pour un équipement de photolithographie. Le système est hautement configurable, ce qui lui permet de répondre aux besoins de différents types de processus de lithographie. Il est également efficace, fournissant des débits élevés avec des niveaux de défauts faibles.