Occasion OAI HYBRALIGN 500 #133785 à vendre en France

OAI HYBRALIGN 500 est un puissant aligneur de masque idéal pour la technologie de pointe dans la production de circuits intégrés. Le dispositif est disponible en trois modèles : HYBRALIGN 500A, 500B et 500C, chacun conçu pour accueillir différentes épaisseurs de masques et de substrat. HYBRALIGN 500 est équipé d'un équipement d'imagerie de projection qui fonctionne à une longueur d'onde de 400nm pour mettre la lumière laser transmise à travers un masque sur la résine photosensible du substrat. Le système est alors capable d'enregistrer les positions de repères d'alignement sur le masque et le substrat à travers un motif existant ou nouvellement projeté. Un étage motorisé de précision est également utilisé pour cibler avec précision les alignements à moins de 2 microns près. L'unité est capable d'appliquer des revêtements photorésistants avant chaque étape d'alignement et d'exposition et utilise des algorithmes avancés d'adaptation de motifs pour effectuer un alignement de haute précision. Des fonctionnalités facultatives telles que l'adaptation automatique des motifs, la correction des erreurs en vol et l'alignement en temps réel peuvent être ajoutées pour augmenter l'efficacité, le débit et réduire les coûts totaux. OAI HYBRALIGN 500 bénéficie également d'un design compact et modulaire qui occupe un espace minimal, avec une machine de mouvement modulaire conçue pour répondre aux exigences d'un certain nombre de tâches de production et de technologies. Des logiciels personnalisables sont disponibles pour faciliter le transfert de données essentielles telles que les marques d'alignement et d'exposition. L'interface graphique conviviale permet aux utilisateurs de définir des paramètres d'exposition et de visualiser des données sans codage complexe. En outre, HYBRALIGN 500 est conforme aux normes de l'industrie SEMI et complété par un soutien technique complet pour garantir une efficacité et des performances opérationnelles maximales. C'est la solution idéale pour une technologie de lithographie avancée nécessitant un alignement de masque de haute précision et un transfert de motifs.