Occasion OAI HYBRALIGN 500 #9012380 à vendre en France
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ID: 9012380
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner
Currently set up for 6"
OAI model 783 illuminator supply and controller
Converted to Nikon microscope; includes original Zeiss dual channel scope.
OAI HYBRALIGN 500 est un aligneur de masque professionnel utilisé pour les processus de lithographie dans le développement des circuits intégrés (IC). C'est un type de pas qui est utilisé pour l'image de motifs sur un substrat. HYBRALIGN 500 est une machine à double champ, ce qui signifie qu'elle a deux champs qui peuvent être utilisés pour l'image simultanément. Cela permet des échanges rapides entre champs et l'alignement vertical de différents masques au sein d'un même motif. OAI HYBRALIGN 500 a une résolution de 0,2 μ m ou plus, selon les paramètres du pas. Ses caractéristiques comprennent l'optimisation de la profondeur de mise au point, l'exposition à la lumière UV et le système d'alignement et de mise au point. Il comprend également l'unité de contrôle de l'exposition (ECU), qui est utilisée pour optimiser les paramètres de chaque exposition afin d'assurer la plus grande précision et la plus haute qualité d'image. Le processeur compile alors les données d'exposition et les envoie directement à l'aligneur. HYBRALIGN 500 est également équipé d'une colonne asphérique permettant l'alignement le plus précis et la résolution la plus élevée dans la correspondance des motifs. Il dispose également d'un système avancé d'alignement de masque qui peut compenser les différences de motifs dues au décalage pas à pas. En outre, il dispose d'un système anti-dérive qui maintient constamment le désalignement dans la valeur maximale autorisée, améliorant ainsi les rendements globaux pour le processus de lithographie. La machine supporte également une gamme de masques jusqu'à 8 pouces, avec des capacités d'imagerie directe et indirecte telles que l'exposition au laser et l'exposition dirigée par source laser. En outre, il comprend une unité centrale de contamination propre pour minimiser la contamination, et une option pour l'imagerie sous-terrain avec un étage de rotation intégré. OAI HYBRALIGN 500 possède plusieurs caractéristiques intégrées telles qu'une méthode de bord de couteau, la méthode de faisceau de Bessel et la commande de table à air portante qui permettent un contrôle précis des expositions et de la résolution d'image. De plus, HYBRALIGN 500 est conçu de façon ergonomique pour un entretien facile et un bon fonctionnement. Il est également compatible avec différents types de marchepieds, ce qui le rend applicable à toute une gamme d'industries. Dans l'ensemble, OAI HYBRALIGN 500 est un alignement de masque très avancé qui fournit une excellente résolution d'image et une lithographie de haute précision pour le développement de circuits intégrés. Ses caractéristiques avancées non seulement fournissent des rendements élevés, mais aussi maximisent le débit et réduisent les défauts dans le processus de fabrication.
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