Occasion OAI J500 #293810208 à vendre en France

OAI J500 est un aligneur de masque pour la lithographie semi-conductrice utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. L'aligneur de masque est capable d'aligner un masque, ou photomasque, sur une plaquette avec une précision dans l'échelle du nanomètre. Ceci se fait par l'alignement de la projection et aidé par le réglage angulaire et un microscope de balayage. L'alignement de masque est constitué d'un système de projection optique et contient quatre composants principaux : une source lumineuse, une optique de projection, un étage de masque et un étage de plaquette. La source lumineuse peut être choisie parmi laser, LED et lampe à arc, avec différentes longueurs d'onde et plage de puissance de sortie. L'optique de projection agrandit et projette le masque sur la plaquette, et comporte un réticule, une lentille de balayage et une lentille de condenseur. Le réticule est utilisé pour ajuster la taille, la forme et l'orientation angulaire du motif du masque tandis que l'objectif de balayage est utilisé pour corriger le foyer de la disposition du masque. La lentille du condenseur est utilisée pour former l'image du masque sur la plaquette. L'étage de masque est utilisé pour maintenir la photomasque et peut être déplacé en trois dimensions, permettant l'alignement du masque et de la plaquette. Il a un système inertiel à faible vitesse avec un système d'asservissement en boucle fermée pour fournir une précision de position XYZ. L'étage de masque abrite également l'optique d'alignement chromatique qui permet de compenser en 3D les aberrations induites par l'optique de projection. L'étage de plaquette sert de substrat pour l'alignement de la couche de masque. Il est fabriqué en céramique, et est capable d'alignement rotationnel et de balayage ultra-lisse avec des champs parasites minimums. L'alignement du masque et de la plaquette nécessite un haut degré de précision, avec une précision optimale de 0,4 micromètre pour la fixation. J500 masque aligner est un outil important pour la lithographie semi-conductrice utilisé dans le processus de fabrication de circuits intégrés et d'autres composants microélectroniques. Il peut fournir un niveau nanométrique de précision et de précision tout en maintenant un débit élevé et la fiabilité dans les processus semi-conducteurs les plus exigeants.