Occasion ORIEL 82330 #188526 à vendre en France

ORIEL 82330 est un aligneur de masque automatisé qui est utilisé dans le domaine de la lithographie à semi-conducteurs. Il a une longueur d'onde d'exposition maximale de 325nm, une résolution latérale de 50nm, une profondeur de focalisation de 3um et une vitesse de mouvement fine de 2um/sec. Le positionnement précis est contrôlé par une table XY avec une résolution de 0,5 m. Le plateau de base plat est conçu pour permettre des substrats plats pouvant atteindre 8,5 pouces sur 4,5 pouces avec une épaisseur maximale de 1mm, et un poids maximal de 4kg. Le plateau est durable et dispose d'un système d'aspiration redessiné pour moins d'entretien. Cela permet de maintenir les échantillons solidement en place pour un alignement plus précis. 82330 propose également un système autofocus, un logiciel propriétaire d'alignement des plaquettes et un journal d'exposition. Cela permet un alignement très précis du motif sur le substrat, et enregistre les conditions de focalisation et les paramètres d'exposition utilisés sur la carte mémoire. Le système autofocus est également capable d'optimiser la focalisation sur l'ensemble du champ de vision pour des résultats plus précis. ORIEL 82330 est équipé d'un module de revêtement compatible avec faisceau d'électrons pour le revêtement sur site de résine photosensible. Les caractéristiques notables de ce module comprennent une base de revêtement sous vide, des températures modifiables jusqu'à 100 degrés Celsius, et un revêtement sans brouillard. La suite d'équipements de traitement thermique de laboratoire est adaptée à des applications telles que le dégazage, la filature et la cuisson. Il comprend un spinner de dix stations avec une vitesse réglable de 0 à 2000 tr/min, une plaque chauffante avec des températures allant jusqu'à 400 degrés Celsius, un four à vide à deux étages et une station de refroidissement in situ. 82330 dispose d'une multitude d'outils automatisés qui simplifient la lithographie des semi-conducteurs. La chambre à vide a une hauteur réglable pour accueillir différents échantillons, tandis que les outils d'alignement garantissent un alignement précis et une fixation précise du dos. Le module de couchage assure également une couverture uniforme de la résine photosensible, et les outils de traitement permettent une cuisson rapide et uniforme des échantillons. Cet alignement est conçu pour s'intégrer facilement avec d'autres équipements de laboratoire pour répondre aux besoins exacts de toute application de lithographie à semi-conducteurs.