Occasion PERKIN ELMER 300 #9174286 à vendre en France

PERKIN ELMER 300 est un aligneur de masque utilisé pour la photolithographie - un type de procédé utilisé pour créer des motifs sur un substrat. C'est un outil d'alignement de haute précision utilisé pour reproduire avec précision les caractéristiques d'un photomasque sur une plaquette de silicium, ou d'autres substrats. 300 est particulièrement utilisé pour les procédés de photolithographie dans les industries semi-conductrices et autres industries connexes. PERKIN ELMER 300 fonctionne selon un axe x, y et thêta (θ). Il peut effectuer les trois niveaux d'alignement : unidimensionnel, bidimensionnel et tridimensionnel. L'axe x et l'axe y sont responsables du positionnement latéral, et l'axe thêta de l'alignement en rotation. L'alignement de précision assuré par 300 assure une reproduction précise du motif sur le photomasque sur la plaquette semi-conductrice. Ceci est réalisé en alignant avec précision le substrat de silicium par rapport au photomasque en utilisant les axes x, y et thêta de la machine. PERKIN ELMER 300 utilise des techniques de reconnaissance optique et d'auto-alignement pour le processus d'alignement. L'équipement de reconnaissance de vision optique détecte le motif sur le substrat, tandis que le système d'auto-alignement effectue automatiquement la procédure d'alignement. De plus, 300 est équipé d'une ouverture réglable qui permet d'ajuster la dose d'exposition du photomasque sur le substrat. Cela permet de réduire la variabilité du processus de lithographie et d'augmenter la précision du transfert de motifs. PERKIN ELMER 300 dispose également d'une unité d'imagerie qui utilise l'ultraviolet et la lumière visible pour inspecter le substrat et la photosensibilité des matériaux utilisés. Cette inspection permet de détecter des défauts ou des irrégularités dans le substrat avant l'imagerie. La machine peut également être utilisée pour mesurer l'épaisseur et les hauteurs de pas du substrat, ainsi que pour créer des images en coupe transversale. 300 est un outil puissant et efficace utilisé par de nombreux laboratoires pour les processus photolithographiques. C'est l'un des aligneurs de masques les plus utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs car il fournit une méthode rapide et précise pour le transfert de motifs d'un photomasque à un substrat. La facilité de fonctionnement et la grande précision offertes par PERKIN ELMER 300 en font un choix idéal pour les entreprises et les laboratoires travaillant dans l'industrie des semi-conducteurs.