Occasion PERKIN ELMER 340 #293643187 à vendre en France

PERKIN ELMER 340 Masque Aligner est un outil de lithographie utilisé pour la production de masques de photolithographie en microminiature. Il est conçu pour exposer une variété de couches de masque, y compris le chrome, le quartz et l'aluminium, en utilisant la lumière ultraviolette (UV). Le Masque Aligner est alimenté électriquement et est commandé via un équipement d'exploitation Windows. 340 Masque Aligner est conçu pour un alignement rapide et précis des masques optiques. Il dispose d'un étage commandé par microprocesseur avec une fonction d'auto-alignement intégré qui permet un alignement extrêmement précis des couches. Le Masque Aligner dispose également d'un système de capteurs, appelé masque d'alignement d'ombre, qui lui permettent de détecter avec précision la position et l'orientation des couches exposées. Le Masque Aligner a une vitesse d'étage allant jusqu'à 25 cm/s, permettant un traitement rapide des couches. PERKIN ELMER 340 Masque Aligner est capable de produire des masques de photolithographie de bonne qualité avec une résolution maximale de 0,8 micron et une taille minimale de 1,2 micron. Le Masque Aligner dispose également d'une unité d'alignement incident du faisceau laser, qui permet un alignement extrêmement précis des masques, avec une précision de 10 μ m ou mieux. Cette machine utilise la lumière laser réfléchie, qui est capable de détecter les détails de la plus petite taille de la caractéristique, le rendant adapté à toutes sortes de substrat. Le Masque Aligner dispose également d'une caméra CCD intégrée embarquée pour l'inspection visuelle des masques. Ceci se fait en capturant des images du masque à différents stades de la lithographie, puis en envoyant les images à un ordinateur pour analyse et comparaison. Cet outil permet à l'utilisateur de détecter rapidement les défauts, les irrégularités et le désalignement des masques. Le Masque Aligner dispose d'un écran LCD à changement rapide, permettant une commutation rapide entre les différents processus de lithographie. Cela permet aux opérateurs de passer rapidement d'un processus à un autre, réduisant les temps d'arrêt et améliorant l'efficacité. Le Masque Aligner permet également aux opérateurs d'enregistrer et de rappeler différents paramètres d'alignement pour différents masques, leur permettant de traiter rapidement et précisément plusieurs masques sans avoir à ajuster les paramètres à chaque fois. 340 Masque Aligner est capable de produire des masques de photolithographie de haute qualité pour une variété de dispositifs et d'applications microélectroniques. Avec sa haute résolution et sa précision, ce Masque Aligner peut être utilisé pour produire des masques pour tout, de l'échelle nanométrique à la microélectronique avancée.