Occasion PERKIN ELMER Micralign 220 #9233008 à vendre en France

PERKIN ELMER Micralign 220 Masque Aligner est un aligneur polyvalent pour le masquage photolithographique à semi-conducteur qui fournit des résultats supérieurs avec une grande précision. C'est un outil idéal pour toute une gamme d'applications, de la production de faible à moyen volume de composants qui nécessitent des transitions transparentes et précises d'une couche à l'autre. Micralign 220 Mask Aligner utilise deux étages X-Y opposés pour positionner avec précision un bouclier et exposer des plaquettes à 18 x 20, et des substrats 36 x 40 mm. Les mesures tridimensionnelles de la plaque, de l'eau et de la surface de levage d'alignement assurent la précision et le niveau de précision d'un micron de l'équipement. Cette précision est obtenue en utilisant le contrôle au niveau des patins du mouvement des pas, combiné à un système de détection XY-cross-télécentrique qui garantit un fonctionnement sans dérive. PERKIN ELMER Micralign 220 Mask Aligner offre également une manipulation intégrée des plaquettes en option qui permet un alignement et une exposition séparés. L'unité dispose d'un mécanisme d'alignement commandé par pas qui permet une large gamme d'angles d'alignement et peut également effectuer un alignement parallèle ou série. Il utilise une projection optique multi-spectrale de haute puissance pour obtenir 25 micromètres ou une meilleure précision d'alignement et une taille minimale de 3 micromètres. Micralign 220 Mask Aligner est conçu pour les applications à haut débit et la machine multi-exposition en option assure l'exposition simultanée de plusieurs substrats pour une plus grande efficacité. PERKIN ELMER Micralign 220 Mask Aligner comprend également une interface utilisateur intuitive, ce qui le rend facile à contrôler et à utiliser. Il dispose d'un outil d'étalonnage intégré qui ajuste automatiquement l'actif lorsque des expositions se produisent à l'extérieur de la fenêtre cible. Le modèle est également équipé d'un système de déphasage breveté MEMS (micro-électromécanique) qui assure que toutes les expositions ont atteint le même déphasage lors des chevauchements et que la stabilité globale du processus est maintenue. Enfin, l'unité comprend une machine de contrôle de la température et de l'humidité qui assure que le processus d'alignement et d'exposition est effectué dans un environnement optimal. Micralign 220 Mask Aligner est conçu pour une répétabilité et une précision maximales et est l'outil parfait pour une variété d'applications d'alignement de masque et de photolithographie. Sa polyvalence et son interface utilisateur intuitive en font un outil idéal pour les applications nécessitant une grande précision et une grande vitesse.