Occasion QUANTEL NXQ 4000 #9218302 à vendre en France

ID: 9218302
Mask aligner.
QUANTEL NXQ 4000 est un aligneur de masque de haute précision conçu pour produire des résultats de photolithographie précis et cohérents. Utilisant les dernières technologies d'alignement et d'automatisation, NXQ 4000 est une solution de photolithographie idéale pour les dispositifs semi-conducteurs avancés et MEMS. Cet alignement de masque fonctionne en fournissant un foyer précis et un équipement moteur pas à pas à commande numérique. Il est capable d'effectuer l'alignement des plaquettes et l'examen des défauts dans les processus d'alignement et d'exposition. QUANTEL NXQ 4000 est équipé d'un capteur autofocus de haute précision pour positionner avec précision la plaquette. Une caméra d'inspection intégrée aide l'opérateur à vérifier précisément l'orientation et le placement des plaquettes. En outre, il comprend un système de vision avancée pour une détection rapide et fiable et l'alignement de structures complexes et difficiles. Le NXQ 4000 est très automatisé et facile à utiliser. En utilisant un design modulaire, il est capable d'effectuer une variété de tâches allant de l'impression de contacts à des prises de vues d'images pas à pas en une étape. L'unité de transport entièrement automatisée assure un échange rapide de plaquettes sans interruption d'exposition. QUANTEL NXQ 4000 comprend de nombreuses fonctionnalités telles qu'une machine de protection sans contact, un outil multi-utilisateurs, une protection haute sensibilité, une fonction de confirmation complète, un alignement optique programmable, un atout de vision intégrée et un contrôle programmable du scanner. De plus, il offre une capacité de dépistage de masque QA incluse pour une inspection précise des défauts sans intervention manuelle. Dans l'ensemble, NXQ 4000 est un aligneur de masque avancé conçu pour produire des résultats de photolithographie très précis pour même les structures les plus complexes et les plus difficiles. Il offre un haut niveau d'automatisation, de flexibilité et de performance, ce qui en fait un outil essentiel pour des opérations de photolithographie efficaces.
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