Occasion QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #9140529 à vendre en France

QUINTEL / NEUTRONIX 7000
ID: 9140529
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6" IR Backside alignment.
QUINTEL/NEUTRONIX 7000 est un aligneur de masque de pointe utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet équipement est conçu pour assurer un alignement et un positionnement précis des photomasques pendant le processus de lithographie. L'aligneur utilise un étage interférométrique unique qui fournit une haute résolution, répétabilité et précision dynamique. Ceci est idéal pour la production de dispositifs à haut rendement. L'aligneur est équipé d'un système optique laser capable de capturer des images à haute résolution. Cette unité dispose d'un compensateur à double coin pour assurer le plus haut niveau de précision optique. Les données d'image capturées par le laser sont ensuite numérisées et analysées par un processeur de signal numérique (DSP) qui fournit les coordonnées exactes des bords de la photomasque pour un alignement précis. La machine QUINTEL 7000 utilise une technologie de vision avancée pour fournir un haut niveau d'automatisation. Cela permet à l'opérateur d'ajuster rapidement la focalisation et l'exposition du photomasque afin de l'aligner avec précision sur la plaquette. L'outil est également capable d'ajuster automatiquement le temps d'exposition et la distance focale pour assurer un alignement cohérent sur plusieurs cycles d'exposition. L'alignement fonctionne à l'aide d'une interface graphique conviviale avec un écran tactile. Cela permet à l'utilisateur d'entrer rapidement les paramètres de conception et de faire des modifications rapides si nécessaire. La machine est également capable de recevoir une grande variété de substrats et de masques grâce à son embase et ses actionneurs réglables. NEUTRONIX 7000 est un outil puissant pour produire des dispositifs semi-conducteurs fiables et performants. L'actif fournit un alignement précis et est hautement automatisé, permettant la génération efficace de conceptions complexes. En outre, le modèle est capable de recevoir une grande variété de substrats et de masques, permettant la conception et la fabrication d'appareils polyvalents.
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