Occasion QUINTEL / NEUTRONIX Q7000 #293603582 à vendre en France

QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 est un adaptateur de masque polyvalent pour aligner des photomasques pour des applications de modélisation d'appareils simples ou multiples et fournir un traitement précis de plusieurs appareils avec des exigences de caractérisation différentes. Il peut être utilisé pour des travaux de microfabrication, du traitement de base de dispositifs et de circuits aux technologies de pointe utilisées dans les systèmes embarqués modernes. QUINTEL Q7000 dispose d'un étage de mouvement de précision à deux axes, qui fournit une résolution sous-micron des axes X et Y du substrat. Cette étape est capable de vitesses relatives allant jusqu'à 25 cm/s, et les fonctions de programmation du contrôleur permettent une automatisation complète du processus de mise en forme. Le processus est également intégré avec d'autres systèmes d'exploitation d'environnement, tels que Windows, pour un fonctionnement facile avec des outils logiciels communs. Pour les applications d'alignement, NEUTRONIX Q 7000 dispose d'un module d'alignement automatisé qui utilise une approche « stéréo vision » unique pour assurer des alignements précis des images et couches souhaitées. Ce module utilise une optique usinée avec précision et des techniques de « stéréo-vision » réfractives uniques pour assurer le meilleur alignement et l'image la plus détaillée possible. La caractéristique principale de QUINTEL/NEUTRONIX Q 7000 est son équipement de lithographie à double faisceau, qui permet une fidélité élevée sur n'importe quelle surface plane. Il utilise deux jeux d'optiques de faisceau optimisées par diffraction - un sur le substrat et un sur le masque - et dispose d'une large gamme de focalisation qui lui permet de générer des images de meilleure largeur que 0,1 um. Les autres caractéristiques du système de lithographie à deux faisceaux comprennent la capacité d'effectuer des opérations d'étape et de répétition avec un débit élevé, ainsi que de plus petites tailles de caractéristiques avec un contraste lithographique amélioré. Les autres caractéristiques du Q 7000 comprennent une enceinte de résistance à l'acide qui peut être utilisée pour maintenir les produits chimiques du procédé loin du substrat, une unité avancée de nettoyage FOUP qui est conçu pour prévenir la contamination du procédé, et une machine intégrée d'alimentation en gaz pour la livraison de gaz de purge appropriés. Q7000 est un outil de lithographie avancé qui est bien adapté pour des applications de haute qualité et de haute précision. Avec ses capacités d'alignement sophistiquées, son logiciel de contrôle automatisé, son actif de lithographie à double faisceau et d'autres fonctionnalités, il est une solution idéale pour les besoins de microfabrication.