Occasion QUINTEL Q4000-4IR #9132217 à vendre en France

QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner est un outil puissant pour la fabrication de composants microélectroniques avancés, tels que circuits intégrés, MEM et Bio-MEMS. Q4000-4IR est un équipement de lithographie par faisceau d'ions quatre en un qui offre une exposition photorésistante positive et négative, des motifs photomasques et des alignements de masques. QUINTEL Q4000-4IR est conçu pour diverses applications de recherche et de production, telles que les MEM, l'électronique flexible, les sciences de la vie et la nanotechnologie. Ce système est conçu avec un degré élevé de précision et de précision qui permet le traitement des caractéristiques ultra-fines. Q4000-4IR dispose d'une conception brevetée de source double ion, qui offre une plus grande flexibilité et des économies de coûts. Les faisceaux d'ions doubles sont capables de délivrer avec précision des ions positifs et négatifs dans la photorésist. QUINTEL Q4000-4IR dispose également d'un laser de grande puissance et d'une unité multidimensionnelle d'alignement des masques ioniques (MBMAS) pour un alignement précis des masques. La chambre à canon à électrons intégrée permet le traitement rapide et efficace de grands substrats. La machine d'exposition à la photolithographie de Q4000-4IR permet l'impression directe de motifs d'image à des photorésistes, avec une résolution jusqu'à 4 um. L'outil d'alignement de photomasques très sensible est capable de fournir l'alignement haute résolution nécessaire pour les composants microélectroniques critiques. Le laser Align + permet un réglage rapide et facile de l'alignement du photomasque avec la couche exposée, ce qui élimine le réglage long sous le microscope. QUINTEL Q4000-4IR est équipé d'une gamme de fonctions de sécurité et de contrôle pour garantir des performances optimales. La chambre d'environnement contrôlée garde Q4000-4IR dans un environnement régulé, avec les options pour la pression et le contrôle de température. Le modèle de sécurité et de diagnostic supérieur permet un entretien et un fonctionnement faciles de l'équipement, ainsi qu'une identification et une résolution rapides des défauts. QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner est conçu pour répondre aux besoins des entreprises électroniques et optiques avancées d'aujourd'hui. Sa combinaison de caractéristiques puissantes, un alignement précis et précis, et des caractéristiques de sécurité et de diagnostic supérieures font de Q4000-4IR le choix idéal pour la fabrication de composants microélectroniques avancés et de dispositifs semi-conducteurs. La polyvalence de QUINTEL Q4000-4IR garantit que, que les clients produisent des systèmes à haut volume ou des prototypes, ils peuvent compter sur sa précision et sa fiabilité.