Occasion QUINTEL Q4000 #293696567 à vendre en France
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ID: 293696567
Mask aligner
Wavelength: 365 to 436 nm
Light source with Hg Lamp: 350 W
Lamp working hours: ≥ 600
Main wavelength:
i-line: 365 nm
h-line: 405 nm
Illumination intensity
i-line: 22 mW/cm2
h-line: 50 mW/cm2
Uniformity: ≤ 5%
Exposure area: Φ100 mm
Exposure modes:
Proximity
Soft contact
Hard contact
Vacuum contact
Thickness: 1 µm
Substrate size: 3"
Mask size: 4" x 4"
Fix type: Top load
Gap setting range: 0-500 µm
User interface: Touch pad
Power supply: 100 V, 50/60 Hz, 20 A.
QUINTEL Q4000 est un équipement d'alignement de masque très avancé conçu pour des procédés de photolithographie de haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et d'autres applications en microélectronique. Cet équipement de pointe offre une gamme de fonctionnalités et de capacités qui permettent aux utilisateurs d'obtenir un alignement et un marquage extrêmement précis des photomasques sur des substrats avec une résolution de sous-microns. Une des caractéristiques clés de QUINTEL Q 4000 est son système d'alignement de précision, qui utilise une optique avancée et des étages motorisés pour obtenir des précisions d'alignement allant jusqu'à 50 nm. Ce niveau de précision est crucial pour assurer un transfert précis des motifs sur le photomasque sur le substrat, ce qui conduit à des dispositifs de haute qualité et sans défaut. L'unité comprend également une machine d'imagerie haute résolution qui permet aux opérateurs de visualiser et de contrôler le processus d'alignement en temps réel. Q-4000 est équipé de multiples sources d'éclairage, y compris les UV, les UV profonds et les options quasi-UV, pour répondre à un large éventail de matériaux photorésistants et les exigences de processus. L'outil comprend également des paramètres d'exposition réglables, tels que l'intensité, le temps d'exposition et la dose d'énergie, afin d'optimiser le processus de lithographie pour différentes applications et substrats. De plus, QUINTEL Q-4000 offre des modes d'exposition de proximité et de contact, permettant aux utilisateurs de choisir la méthode d'exposition la plus adaptée à leurs besoins spécifiques. En termes de productivité et de débit, Q4000 est conçu pour un fonctionnement à grande vitesse, avec des fonctionnalités d'automatisation programmables qui permettent un traitement par lots et des changements rapides de masque. Cela permet aux utilisateurs d'augmenter leur efficacité de production et de réduire les temps de cycle, ce qui rend Q 4000 idéal pour les environnements de fabrication à haut volume. L'actif comprend également des capacités logicielles avancées pour la gestion des recettes, le contrôle des processus et l'analyse des données, facilitant une intégration transparente dans les chaînes de production automatisées. Un autre avantage majeur de QUINTEL Q4000 est sa polyvalence et sa flexibilité, avec un design modulaire qui peut être facilement personnalisé et amélioré pour répondre aux exigences technologiques en évolution. Les utilisateurs peuvent ajouter des fonctionnalités supplémentaires, comme des systèmes d'inspection des marques d'alignement, la détection des bords des plaquettes et des outils d'étalonnage automatisés, pour améliorer les performances et les capacités du modèle. QUINTEL Q 4000 est également compatible avec une large gamme de tailles et de types de masques, permettant aux utilisateurs de travailler avec divers formats et spécifications de photomasques. Dans l'ensemble, Q-4000 est un équipement d'alignement de masque de pointe qui combine précision, performance et productivité pour permettre des processus de photolithographie de pointe dans les industries des semi-conducteurs et de la microélectronique. Avec ses fonctionnalités avancées, son interface conviviale et sa construction robuste, QUINTEL Q-4000 est une solution fiable et rentable pour les organisations qui cherchent à obtenir des résultats de haute qualité dans leurs processus de fabrication.
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